Occasion KLA / TENCOR SP1-DLS #9267047 à vendre en France

KLA/TENCOR SP1-DLS est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes de haut niveau conçu pour être utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Ce système fournit une imagerie complète à haute résolution qui est capable de scanner à travers une gamme de matériaux, tels que des photomasques, des matériaux époxy, et des revêtements antireflet. L'unité utilise l'imagerie optique de pointe pour obtenir des images détaillées du matériau, fournissant une imagerie rapide et précise pour permettre à l'utilisateur d'identifier rapidement les défauts potentiels. L'optique utilisée dans la machine utilise des conceptions avancées de masque d'ouverture monolithique pour aider à réduire le bruit et éliminer le speckle, fournissant des images de résolution significativement plus élevée. Cet outil offre également une gamme de capacités d'analyse d'image de haut niveau, fournissant des algorithmes avancés pour détecter rapidement les défauts tout en minimisant les résultats erronés et les fausses alarmes causées par des signaux distraits. L'outil d'imagerie permet également un passage rapide entre différents types d'échantillons, ce qui contribue à réduire ou à éliminer les temps morts. KLA SP1 DLS utilise un réseau de détecteurs ultra haute résolution, qui balaye le matériau jusqu'à 50 trames par seconde, assurant que tout le matériau est analysé de façon cohérente. L'utilisateur peut même installer et configurer des algorithmes de détection spécifiques à l'application afin de s'adapter au mieux à leur application spécifique. En outre, le modèle est également capable de mesurer et de suivre automatiquement différents paramètres de l'échantillon, tels que la taille, la forme, la position et la densité des défauts. Cet équipement offre également une classification automatisée des défauts détectés pour améliorer l'efficacité. Toutes ces fonctionnalités font du système TENCOR SP 1-DLS une solution fiable et efficace pour l'inspection des masques et des plaquettes. Ses capacités d'imagerie et d'analyse de haut niveau le rendent parfait pour toute opération nécessitant des résultats d'imagerie de haute qualité et haute résolution à la fois fiables et précis. Cette unité est idéale pour les opérations à la recherche de capacités supérieures de détection de défauts de masque et de plaquettes.