Occasion KLA / TENCOR SP1-TBI #9037347 à vendre en France

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ID: 9037347
Taille de la plaquette: 8" and 12"
Style Vintage: 2005
Single open cassette type Vaccum chuck type Software 4.1 Ver. Particle counter, 8" and 12" Single open cassette Vacuum chuck type Software: version 4.1 Laser and laser power supply Triple beam illumination (TBI) Wafer type: bare and film Normal illumination: 0.079um defect sensitivity, oblique illumination, 0.06um defect sensitivity 0.005 ppm Haze sensitivity Ar Ion laser (488nm) RTDC (Real time defect classification) Measurement chamber with ULPA filter and blower unit Security, Logging and Native Networking Key pad controls, TFT flat panel display Parallel printer port Defect map and histogram with zoom Micro view measurement capability Blower box Currently de-installed 2005 vintage.
KLA/TENCOR SP1-TBI Masque & Wafer Inspection Equipment est un système avancé d'inspection des plaquettes et des masques conçu pour la production de photomasques à haute vitesse. L'unité utilise deux canaux d'inspection indépendants sur une seule plate-forme afin d'assurer une inspection des plaquettes et des masques de haute qualité jusqu'à 12 MHz. KLA SP1T-BI est conçu pour la caractérisation des défauts et la vérification des motifs complexes de plaquettes photomasques de 6 pouces ou 8 pouces. La machine est équipée de caméras et d'optiques haute résolution pour capturer et analyser les motifs sur les plaquettes photomasques. L'outil possède également un atout de mouvement de scène qui permet le balayage XY de la surface du masque et un étage d'inclinaison à deux axes. Le modèle est également capable de détecter divers types de défauts, notamment : petit défaut de ligne de tangage, défaut de gravure, mauvais coups, inadéquation, mauvais alignements de couches, motifs de damier non associés, défauts de gravure, et plus encore. L'équipement peut détecter avec précision les défauts pertinents de la plaquette et reconnaître la forme de la plaquette pour identifier la plaquette inspectée. Avec un système HPC (High Performance Compute), TENCOR SP1 TBI permet de traiter plusieurs images simultanément et d'identifier rapidement les erreurs lithographiques. La numérisation et l'inspection à grande vitesse sont alimentées par la cartographie et le traitement des données à balayage rapide. La machine dispose d'un processus automatisé de catégorisation et de classement des défauts pour générer rapidement un rapport détaillé. TENCOR SP1-TBI Mask & Wafer Inspection Tool est une solution idéale pour la production de masques haut de gamme. Il offre une fiabilité, une précision et une inspection à grande vitesse améliorées tout en permettant un meilleur débit par rapport à tout processus de balayage manuel. L'actif dispose d'une interface conviviale pour faciliter son utilisation par les opérateurs. En outre, le modèle utilise des logiciels sophistiqués pour suivre, stocker, classer et analyser les lots de processus. L'équipement offre des rapports détaillés pour divers types d'étapes et des opérations d'examen pour permettre une traçabilité efficace. KLA/TENCOR SP1 TBI offre d'excellentes performances globales avec une précision supérieure et une vitesse inégalée. Le système répond aux besoins des processus de production les plus exigeants pour assurer une production fiable et rentable.
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