Occasion KLA / TENCOR SP1-TBI #9217879 à vendre en France

KLA/TENCOR SP1-TBI Masque et Wafer Inspection Equipment est un système automatisé conçu pour détecter et analyser les défauts sur les masques et plaquettes micro-fabriqués en 3D. L'unité offre un ensemble complet de capacités d'inspection de masque et de plaquettes qui peuvent être utilisées dans une grande variété de secteurs dans l'industrie des semi-conducteurs, tels que l'équipement d'essai automatisé, l'emballage avancé, la fabrication de MEMS, et d'autres processus de fabrication IC. KLA SP1T-BI masque et wafer inspection machine dispose d'un algorithme avancé d'inspection de masque pour détecter les défauts. Cet algorithme est doté d'une technologie tridimensionnelle (3D) de reconnaissance de modèle, qui permet aux utilisateurs d'analyser rapidement et avec précision les défauts sur les masques et les plaquettes. Cet outil est capable de détecter les défauts petits et grands, des désalignements de fonctionnalités et des erreurs de masquage aux caractéristiques cassées ou manquantes. L'actif est également capable d'acquérir des images haute résolution des masques et des plaquettes à l'aide d'une caméra de cinq mégapixels pour l'imagerie plein champ de vue. Ceci fournit aux utilisateurs une liste complète des résultats avec des informations de position détaillées pour chaque défaut. Ce modèle utilise un contrôle d'étage automatisé, qui permet aux utilisateurs de déplacer facilement l'échantillon à travers le champ de vision. En outre, l'équipement comprend une puissante capacité de calibrage et de classification des caractéristiques qui peut différencier différents types de défauts. Cette fonctionnalité fournit aux utilisateurs une liste complète des résultats avec des distributions de défauts et des types pour l'analyse des défauts. Ce système comprend également une puissante suite de traitement d'image pour permettre une évaluation rapide des défauts et atténuer la fatigue humaine. En outre, le masque TBI TENCOR SP1 et l'unité d'inspection des plaquettes sont équipés d'une interface graphique intuitive pour simplifier le fonctionnement. Cette interface est conçue pour optimiser l'efficacité de l'utilisateur, améliorer la précision de l'examen des défauts et permettre des résultats efficaces et reproductibles. Cette interface conviviale fournit également aux utilisateurs une indication visuelle des zones problématiques, ce qui permet aux utilisateurs de sélectionner des régions de défauts spécifiques pour examen. Dans l'ensemble, KLA SP 1-TBI masque et wafer inspection machine fournit haute performance et la détection fiable des défauts pour permettre les niveaux les plus élevés de rendement et de fiabilité des dispositifs semi-conducteurs. Cet outil offre aux utilisateurs une solution avancée et complète pour les inspections de masques et de plaquettes avec la combinaison de son algorithme avancé, imagerie haute résolution, contrôle automatisé des étapes, dimensionnement et capacités de classification des fonctionnalités, et interface conviviale.