Occasion KLA / TENCOR SP1-TBI #9236208 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9236208
Taille de la plaquette: 8"
Surface inspection system, 8" Thickness: SEMI Standard wafer thickness Defect sensitivity: ≤0.08 μm diameter PSL sphere equivalent ≥95% capture rate Haze Sensitivity: ≥0.005 ppm Resolution: 0.0002 ppm Repeatability: Haze: CV ≤3.0% @ Avg. Haze 0.1 ppm Count: CV ≤1.0% (Mean count 2000, 0.136 μm diameter latex spheres) Sizing: CV ≤0.5% @ 0.136 μm histogram peak value Edge exclusion: ≤ 1.0 mm for all wafer size Spatial resolution: 20 μm spacing, minimum Throughput Standard: 80 wph for 300 mm @ 0.1 μm 120 wph for 200 mm @ 0.1 μm 150 wph for 150 mm @ 0.1 μm Contamination: ≤0.001 particles/cm2/pass ≤ 0.12 pm Cassette handling Standard: Single puck w 1x300 / 2x200 mm cassette Illumination source: 30 mW Argon-Ion laser, 488 nm wavelength Operator interface: Keypad, trackball and keyboard standard Operating system: Windows NT Vacuum: < 20 KPa (≥ 24" Hg) Electrical: 200-240V 50/60 Hz Power Requirement: 5.4 kVA Ducted venting: (2) 102 mm (4") exhaust hoses Environment: Class 10 / Better.
KLA/TENCOR SP1-TBI est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes qui utilise l'imagerie optique, les systèmes d'imagerie haute résolution et les algorithmes avancés de détection des défauts. Il est conçu pour détecter même les défauts les plus subtils sur les dispositifs semi-conducteurs à grande échelle. Le système utilise une unité d'imagerie à faisceau quadruple à DEL avec quatre fois la résolution des systèmes d'inspection classiques. Cela lui permet de détecter même les défauts les plus microscopiques sur une plaque ou une surface de substrat. La machine dispose également d'algorithmes de détection automatique des défauts et de logiciels d'analyse d'image qui peuvent détecter rapidement et avec précision les défauts. L'outil est conçu pour scanner les échantillons rapidement et efficacement. Il est équipé d'un atout de vision à grande vitesse pour balayer simultanément plusieurs couches d'un substrat. Le modèle dispose également d'un équipement automatique d'optimisation de piste qui réajuste automatiquement l'éclairage de l'échantillon en fonction de la position courante. Le système est extrêmement convivial, car il a une interface graphique personnalisable et est compatible avec une variété de logiciels. Il est également évolutif, ce qui signifie qu'il peut gérer des tâches de fabrication de semi-conducteurs à petite et grande échelle. L'unité s'intègre à d'autres produits KLA tels que le profileur Contour, MultiCentreEdge et WaferTracker. Ces composants fournissent une solution d'inspection complète pour les utilisateurs. La machine utilise également des logiciels tiers tels que IC Layout et Optimal Probe pour assurer une inspection approfondie et précise. KLA SP1T-BI possède également plusieurs fonctionnalités avancées, y compris des algorithmes programmables pour personnaliser les modèles d'inspection des défauts pour divers types d'échantillons. Il comprend également une bibliothèque de défauts qui stocke, examine et caractérise les défauts détectés pour référence future. Dans l'ensemble, TENCOR SP1 TBI est un outil avancé d'inspection des masques et des plaquettes qui utilise une technologie avancée d'imagerie et de détection des défauts. Son imagerie haute résolution, son interface graphique personnalisable, son intégration avec des tiers et ses fonctionnalités avancées en font un outil puissant et fiable pour détecter les défauts avancés.
Il n'y a pas encore de critiques