Occasion KLA / TENCOR SP1-TBI #9248729 à vendre en France

KLA/TENCOR SP1-TBI Mask & Wafer Inspection Equipment est un outil automatisé de précision pour le contrôle de la qualité et l'analyse des défauts des plaquettes semi-conductrices pendant le processus de fabrication. Ce système permet aux opérateurs d'analyser rapidement et avec précision les zones de la surface de la plaquette pour détecter les défauts, impuretés, contamination ou autres irrégularités. KLA SP1T-BI fournit une imagerie haute résolution, une analyse puissante et une interface utilisateur flexible, ainsi qu'un certain nombre d'outils d'analyse et un flux de travail d'imagerie puissant. L'unité comprend du matériel et des logiciels sophistiqués qui facilitent le débit élevé, la capture d'image extrêmement rapide et la reconnaissance précise des motifs. Il contient : une visionneuse lumineuse et claire ; un étage optique permettant un alignement rapide et précis des échantillons ; deux caméras plein champ qui capturent des images à haute résolution et des réglages multiples ; et une interface entre le PC et l'outil afin d'assurer la visualisation, le stockage et la gestion des données. L'actif comprend également une gamme d'outils d'analyse. Il fournit trois catégories principales de défauts : les particules étrangères, les défauts généraux et les anomalies. De plus, les opérateurs peuvent accéder à trois techniques de cartographie des plans : Illumination multi-angles Champ sombre (MIDF), Illumination normale Champ sombre (NIDF) et Détection des défauts de décalage de phase (PSDD). Cela permet une gamme de reconnaissance des défauts au niveau de la composition et/ou de la structure des pixels. Les outils d'analyse offrent une interface utilisateur intuitive pour combiner l'analyse automatique et manuelle. L'échantillonnage automatisé est un autre aspect de TENCOR SP1 TBI. L'échantillonnage peut être configuré par l'utilisateur selon les exigences spécifiques de l'application et du site. Il aligne et acquiert automatiquement des images jusqu'à 5.000 plaquettes par heure et est capable de détecter des défauts jusqu'à 6nm. En outre, il peut enlever les plaquettes avec des dommages graves, éliminant virtuellement les plaquettes rejetées. KLA/TENCOR SP1 TBI offre également un certain nombre d'interfaces à plusieurs systèmes de gestion de données, permettant aux opérateurs de transférer et de partager efficacement des informations de production critiques. Cela permet d'assurer le contrôle de la qualité des plaquettes dans la chaîne de production. En résumé, KLA SP1-TBI Mask & Wafer Inspection Model fournit un outil polyvalent et rentable pour l'inspection des plaquettes semi-conductrices. Il fournit des capacités précises d'imagerie et de détection des défauts en combinaison avec l'alignement automatisé des échantillons ; son interface utilisateur intuitive offre une gamme d'outils d'analyse et d'interfaces aux systèmes de données - le tout afin de garantir de manière fiable le contrôle de la qualité des plaquettes pendant le processus de fabrication.