Occasion KLA / TENCOR SP1 #87226 à vendre en France
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

Vendu
ID: 87226
Classic wafer surface inspection system, 12"
Cassette to Cassette
Software Version: 3.30.1829
Power Requirements: 208/240 V, 24.0 A, 50/60 Hz, 1 Phase
Argon Ion Laser: 488nm
Measurement Chamber with ULPA Filter & Blower Unit
Operator Interface MS Windows NT 4.0
Interactive Pointing Device
Keypad Controls
TFT Flat Panel Display
Parallel Printer Port
Defect Map and Histogram with Zoom Micro View Measurement Capability
X-Y Coordinates
0.18 um Process Technologies & Beyond
0.08 um Defect Sensitivity on Well-Polished Silicon
95% Capture
Up to 150 Wafers per Hour Throughput on 12" Wafers
Brooks Automation Fixload
12" Load Port for FOUPS
Working condition
1997 vintage.
KLA/TENCOR SP1 est un équipement de haute précision, de masque automatisé et d'inspection des plaquettes. Le système SP1 de KLA est conçu pour détecter, analyser et signaler les défauts présents sur les surfaces du masque et de la plaquette. L'unité intègre des technologies de vision de pointe, ainsi que des techniques avancées d'adaptation des motifs et d'imagerie, afin d'assurer des résultats d'inspection de haute précision, reproductibles et fiables. Il offre une gamme complète de capacités : détection des défauts critiques, analyse spatiale, archivage d'images et classification avancée des défauts. La machine TENCOR SP 1 utilise une technologie de détection optique de pointe, y compris l'éclairage UV et un microscope confocal à double longueur d'onde, pour détecter et analyser avec précision les défauts sur les surfaces du masque et de la plaquette. L'outil est conçu pour capturer jusqu'à 8 images, à des résolutions allant jusqu'à 300nm. L'actif dispose également d'une caméra haute définition avec six canaux de visualisation multispectrale. Le modèle propose quatre modes de défauts distincts pour inspecter différents types de défauts, y compris « visuels » (défauts de surface tels que bosses, débits de frappe, cloques, etc.), « structurels » (défauts de sous-sol tels que vides, délaminations, etc.), « catastrophiques » (causant des anomalies de processus à grande échelle) et « prédiction » (permettant aux utilisateurs d'anticiper de futurs défauts potentiels). KLA SP 1 comprend une variété de mesures, telles que la taille, la forme et la position des défauts. Un classificateur de défauts automatisé permet à l'équipement de distinguer différents types de défauts, en veillant à ce que seuls les défauts valides (non faux positifs) soient signalés. Cela aide à améliorer la précision et à réduire les fausses alarmes. Enfin, le système KLA/TENCOR SP 1 supporte des capacités de déclaration avancées. L'unité utilise une analyse puissante pour générer des graphiques et d'autres statistiques sommaires qui peuvent être utilisés pour améliorer les processus de production. Les rapports peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques, ce qui permet aux fabricants de mieux comprendre les paramètres de performance des processus importants. En résumé, SP1 est un masque avancé et wafer inspection machine qui offre une gamme complète de capacités. Il utilise une technologie de pointe en matière d'optique et de classification des défauts pour permettre une détection, une analyse et un signalement des défauts de haute précision, reproductibles et fiables. L'outil peut être adapté pour répondre aux besoins spécifiques de tout processus de production, aidant les fabricants à acquérir une connaissance précieuse de leurs opérations.
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