Occasion KLA / TENCOR SP1 #9202637 à vendre en France

KLA/TENCOR SP1 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes qui offre une large gamme de capacités d'inspection pour améliorer la qualité des procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système comprend des technologies de pointe pour l'imagerie haute résolution, le rendement à haut débit, l'inspection totale des motifs, l'examen automatisé des défauts et l'analyse des données. KLA SP1 propose un examen des défauts de niveau wafer pour la localisation rapide des défauts, et un large éventail de techniques d'imagerie pour répondre aux normes client et industriel. TENCOR SP 1 utilise des techniques d'imagerie haute résolution (HRI) pour fournir une capacité supérieure d'inspection des défauts. La technologie HRI repose sur le principe que les atomes absorbent différemment les ondes lumineuses, selon leur structure chimique. En combinant deux faisceaux de lumière pour produire une image à fort grossissement, TENCOR SP1 peut détecter le contraste unique entre les liaisons atomiques. Cela lui permet de détecter la présence de minuscules défauts, tels que des débris de particules ou des variations d'épaisseur de couche. SP1 dispose également d'algorithmes spécialisés de reconnaissance de motifs et de logiciels spécialisés pour détecter, classer et analyser rapidement les défauts. Ces algorithmes filtrent les objets dans une couche selon leur forme, leur taille ou leur position. Les défauts peuvent être identifiés et classés avec le plus haut niveau de précision. Le logiciel peut également générer des rapports de synthèse de données, qui peuvent être utilisés pour détecter des tendances dans un processus ou une couche particulier d'un semi-conducteur. Le SP1 de l'UCK fournit également des capacités d'inspection de modèle total (IPT). TPI est une technique qui permet à l'unité de scanner un motif entier, détectant tous les défauts possibles. À l'aide d'un microscope intégré, la machine peut effectuer un balayage plein champ, cartographiant l'ensemble du motif avec une rétroaction instantanée. Cela aide à prévenir les erreurs non déclarées et réduit la complexité des tâches de diagnostic et de réparation. Enfin, SP1 est conçu pour des performances à haut débit. Il traite de grandes quantités de données à raison de 250 wafers par heure. Cette vitesse ultra-élevée lui permet de détecter et d'analyser rapidement les défauts dans plusieurs couches simultanément. En conclusion, KLA/TENCOR SP 1 est un outil avancé d'inspection des masques et plaquettes qui offre d'excellentes performances et des capacités de détection de défauts inégalées. Il fournit une imagerie haute résolution, algorithmes de reconnaissance de motifs, et des capacités d'inspection totale de motifs pour assurer la détection précise des défauts. En outre, l'actif offre des performances à haut débit pour répondre aux exigences élevées de l'industrie des semi-conducteurs.