Occasion KLA / TENCOR SP1 #9407601 à vendre en France

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ID: 9407601
Inspection system Handler included.
KLA/TENCOR SP1 est un équipement d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour aider à détecter les défauts sur les photomasques et les plaquettes dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Ce système utilise des technologies de capteurs, des systèmes d'imagerie et des techniques d'analyse de données pour obtenir les images les plus précises et à haute résolution des différentes structures présentes sur la surface de la plaquette ou du masque, ainsi que des caractéristiques originales sur les plaquettes. Les systèmes sont disponibles dans diverses configurations, permettant un large éventail de capacités et de fonctions d'imagerie, telles que : mesure de superposition ; alignement des masques ; CD-SEM ; Numérisation des dimensions critiques ; cartographie de la micro-défectuosité ; Contrôle CD et superposition des CD ; Masquage et contrôle OPC ; comparaison des données d'analyse avec la DAC ; et l'inspection des défauts. L'unité SP1 de KLA est équipée de quatre capteurs d'imagerie distincts : deux détecteurs de faisceaux d'électrons, un détecteur laser à balayage et un détecteur de faisceaux focaux. Les détecteurs de faisceau d'électrons génèrent des images de haute précision qui permettent d'analyser avec précision de minuscules caractéristiques et défauts en surface. Les détecteurs laser à balayage produisent des images de structures plus grandes, utiles pour détecter les défauts de surface et examiner l'état général de la plaquette ou du masque. Enfin, le faisceau de focalisation détecte des structures fines imagées, avec la plus grande précision de focalisation de tous les capteurs d'imagerie. La machine est également équipée d'un ensemble d'analyse de données intelligent qui aide les opérateurs à mieux interpréter les images produites par ces capteurs d'imagerie. Ce paquet d'analyse avancée utilise divers algorithmes et technologies pour identifier diverses caractéristiques et variations au sein de l'image, puis fournit une sortie qui simplifie les processus d'inspection. Il est particulièrement utile pour détecter les changements subtils et les défauts à différents niveaux, tels que la topographie de surface et les caractéristiques des sous-cellules. Les données générées par l'outil TENCOR SP 1 sont encore améliorées grâce aux outils de contrôle des processus avancés (APC), qui aident les opérateurs et les ingénieurs à identifier les défauts, à prédire les problèmes et à effectuer des tâches d'analyse complexes. Cela peut augmenter les rendements de production et d'inspection, réduire les coûts et optimiser le flux de travail dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. SP 1 actif a été utilisé dans de nombreuses lignes de production de dispositifs semi-conducteurs, et s'est avéré être un outil fiable et puissant pour gérer les processus de fabrication de semi-conducteurs critiques pour les défauts. Il s'agit d'un outil précieux pour atteindre les rendements de production les plus élevés possibles et maximiser le retour sur investissement.
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