Occasion KLA / TENCOR SP3 SURFSCAN #9238001 à vendre en France

KLA/TENCOR SP3 SURFSCAN est un masque et un équipement d'inspection de plaquettes très avancés. C'est le premier système d'inspection et d'analyse des photomasques et des plaquettes de toutes tailles. Cette unité d'inspection utilise des techniques avancées de balayage par faisceau optique et des algorithmes sophistiqués pour détecter des défauts allant de microns en taille jusqu'aux nanomètres. De plus, la machine fournit une analyse complète des défauts et une classification des défauts conformes aux normes de l'industrie. La caractéristique clé de cet outil est ses capacités avancées de balayage des faisceaux optiques. Cet actif utilise un faisceau de lumière pour inspecter les masques et les plaquettes et détecter toute anomalie. Le faisceau balaye de façon linéaire et est capable de détecter des défauts inférieurs à 5 microns sur un seul pixel. Ce taux de scan est beaucoup plus élevé que celui des microscopes électroniques à balayage traditionnels, ce qui permet une détection plus complète des défauts. Les algorithmes sophistiqués du modèle vont ensuite identifier, -et classer tout défaut détecté. Il analyse les images et divise les défauts en deux catégories : darksides et lightsides. Cette classification aide les opérateurs à voir les faftest et à identifier les causes potentielles. En plus de fournir la détection et la classification des défauts, l'équipement peut également être utilisé pour une variété d'analyse des défauts après balayage. Il comprend des options telles que l'analyse des défauts intelligents basée sur la bibliothèque et des mesures statistiques de la taille des défauts, de l'emplacement, de la morphologie et de l'historique des défauts. En outre, il peut simuler des mesures de métrologie sur tout défaut. Ce système est également capable d'effectuer une gamme de simulations de lithographie, d'analyse et d'autres mesures optiques. Pour soutenir des conceptions plus complexes, l'unité est intégrée dans les derniers outils de conception lithographique et de simulation des principaux fabricants de l'industrie tels que Mentor Graphics et KLA. Dans l'ensemble, KLA SP3 SURFSCAN masque et wafer inspection machine est un outil fiable et très précis pour détecter et classer les défauts photomasque et wafer de toutes tailles. Sa combinaison d'un balayage optique avancé, d'algorithmes sophistiqués et d'une analyse post-scan des défauts en font un outil inestimable pour l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs.