Occasion KLA / TENCOR Spectra CD 100 #9399340 à vendre en France

KLA/TENCOR Spectra CD 100 de KLA est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour détecter les défauts microscopiques et la contamination dans les couches de processus semi-conducteurs. Il utilise des outils avancés pour inspecter avec précision et fiabilité tous les aspects des masques, plaquettes et diélectriques. Le système combine des technologies optiques et d'imagerie sensibles pour identifier rapidement et précisément les problèmes de processus potentiels et la contamination des particules. Les algorithmes de détection intégrés permettent une classification précise des particules détectées. L'optique de l'unité est très efficace, et permet à la fois l'imagerie de contraste élevé et la détection de petits défauts et de faibles contaminations. L'application de matériel et de logiciels optiques avancés permet une optimisation plus rapide et de meilleure qualité des processus. KLA Spectra CD 100 est équipé d'une technologie de scène qui permet le balayage de grandes surfaces en un seul balayage. Avec son degré supérieur de translation et la précision de rotation, la machine obtient un grand nombre d'images de chaque plaquette. Le logiciel puissant est équipé d'une gamme de formats de rapport personnalisables, qui permettent un reporting personnalisé basé sur des applications spécifiques. L'outil peut également être configuré pour détecter et analyser un large éventail d'anomalies et de défauts potentiels. Le Masque et Wafer Inspection Toolkit (MWIT) dispose de multiples modes, y compris l'imagerie complète et spectrale. Grâce à l'imagerie spectrale, l'actif peut détecter et classer des particules simples, de petites particules de poussière et des retombées, même sur de plus grandes surfaces. Le logiciel avancé et facile à utiliser fournit également des outils d'analyse pour interpréter, visualiser et organiser les données de mesure. Le logiciel peut générer des rapports automatisés en format graphique et pdf. TENCOR SPECTRACD 100 est idéal pour la conception et les applications FA. Avec ses performances fiables et précises, il convient pour détecter la contamination des particules, le frottement et les problèmes d'enregistrement jusqu'à une résolution de sous-microns et de nanomètres. L'optique avancée et les capacités d'imagerie peuvent détecter de petits défauts même dans les zones à faible contraste. Ce modèle puissant est rapide, fiable et offre aux utilisateurs une solution économique pour faire progresser le développement des processus et améliorer les capacités d'inspection des masques et des plaquettes.