Occasion KLA / TENCOR Surfscan SP1 Classic #9147123 à vendre en France

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ID: 9147123
Taille de la plaquette: 8"-12"
Inspection system, 8"-12" Single cassette load ATM 107 Robot Pre-aligner Open cassette 300 mm/200 mm with robot handler Defect sensitivity: 0.10 um Defect map & Histogram With zoom micro view measurement capability 150 Wafers per hour throughput on 200mm wafers Illumination source: 30mW Argon-ion-laser 488nm Wavelength Software: Tencor Operator interface: MS Windows NT 4.0 OS TFT Flat panel display Printer KLA SP1 Classic operations manual Spare hard drive with software included.
L'équipement KLA/TENCOR SP1 Classic Mask and Wafer Inspection est un système d'inspection et d'examen optique leader dans l'industrie. Cette plate-forme est utilisée pour l'inspection précise des réticules lithographiques avancés, des photomasques, des plaquettes et d'autres matériaux structurés, permettant une analyse et une optimisation rentables des dimensions critiques des dispositifs et des superpositions (CD) et de la conception. Équipée d'une technologie avancée d'imagerie par diffusion latérale et de divers systèmes automatisés d'inspection des masques et des plaquettes, l'unité KLA SP1 Classic fournit des résultats propres et reproductibles qui répondent à des exigences de rendement toujours plus strictes. La machine TENCOR SP 1 CLASSIC Masque et Wafer Inspection offre une multitude de fonctionnalités pour l'inspection et l'examen des motifs. Toutes les mesures et les résultats sont basés sur la plus grande précision de mesure. Les technologies avancées d'imagerie et d'inspection se combinent pour la détection rapide et automatisée des particules et des défauts, l'analyse des bords et la mesure transparente de l'épaisseur du film - le tout au sein d'une plateforme ergonomique et conviviale. L'outil TENCOR SP1 Classic intègre l'actif d'inspection automatique des particules breveté KLA, qui est conçu pour identifier et mesurer rapidement et de façon rentable les particules sur une gamme de plaquettes. Les algorithmes avancés permettent une analyse rapide des expositions faibles à modérées et des défauts de volume, tandis que les optiques à haute résolution auto-calibrées du modèle améliorent le débit et la précision. Pour une plus grande reconnaissance des modèles, une variété de systèmes automatisés d'inspection des masques partagent une seule pièce de matériel, permettant des mesures et des inspections cohérentes dans plusieurs technologies. En tant que plate-forme d'analyse de précision, l'équipement SP1 Classic Mask et Wafer Inspection est conçu pour supporter plusieurs outils d'inspection dans une seule plate-forme, ce qui permet d'économiser du temps et des coûts. Cette fonctionnalité permet également une reconnaissance facile des motifs et une identification améliorée des défauts. Plusieurs images et méthodes d'analyse sont également disponibles, y compris la mesure des bords, l'inspection efficace, l'observation de superposition, la visualisation couche par couche, la visualisation de pixels plats, la coupe transversale et la visualisation inclinée pour des examens optimisés. La plate-forme KLA/TENCOR SP 1 CLASSIC comprend également une suite complète de capacités d'analyse et de reporting pour une optimisation précise du rendement au niveau des modules et des plaquettes. La numérisation, l'étiquetage, l'étalonnage et l'établissement de rapports automatisés sont tous réalisables grâce au logiciel intuitif du système. Le stockage intelligent des données permet une utilisation optimale des capacités et une analyse plus rapide, tandis que l'analyse et le partage des lots atténuent les risques et les temps d'arrêt associés à la saisie manuelle des données. SP 1 CLASSIC Masque et Wafer Inspection est un outil essentiel pour les équipes d'ingénieurs travaillant sur des noeuds de processus de pointe dans les industries des semi-conducteurs, de l'opto-électronique, de la photomasque et de la nanotechnologie. Grâce à l'inspection de précision de cette plate-forme et à des résultats toujours précis, les utilisateurs bénéficient d'une amélioration des taux de rendement globaux et d'économies de coûts dans le développement de produits.
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