Occasion LASERTEC M2351 #293750750 à vendre en France

ID: 293750750
Style Vintage: 2005
Mask inspection system 2005 vintage.
L'équipement LASERTEC M2351 Masque et Wafer Inspection est un système d'inspection 3D avancé qui permet la mesure automatisée de la forme de la plaquette et la détection des défauts. Il offre une combinaison inégalée de capacités de détection de défauts à haut débit et de métrologie et permet des mesures fiables et répétables des formes et textures 3D du masque et de la plaquette semiconducteurs. LASERTEC M 2351 est capable d'inspecter jusqu'à 5200 par heure, avec un niveau de pression maximum suggéré de 500 000 Pa, et est la première machine à offrir des options de paliers à air de montage d'étage. L'optique avancée, l'outil de mesure et les capteurs de M2351 sont conçus pour localiser et identifier les petits défauts dans les structures et les masques IC, ce qui permet d'étudier et de réduire les défauts avec précision. En outre, il est équipé de multiples systèmes d'imagerie au microscope et Autofocus, qui fournissent tous deux des images à haute résolution de motifs profonds et de circuits pour permettre des investigations précises. M 2351 est également équipé d'une interface logicielle intuitive et d'un logiciel d'acquisition et de contrôle facile à utiliser, qui permet aux opérateurs d'établir rapidement des mesures de défauts et de métrologie. Le logiciel est également livré avec un logiciel d'imagerie, où les images brutes des structures inspectées peuvent être rapidement vues, analysées et stockées. Les algorithmes avancés permettent l'automatisation et l'intégration de tâches d'inspection multiples pour un rendement élevé de résultats précis. L'actif supporte plusieurs tailles de plaquettes et de masques et il est également capable de traiter des substrats non standard et spécialisés. Le modèle LASERTEC M2351 améliore l'assurance qualité et le rendement en identifiant rapidement les défauts et en fournissant des analyses et des rapports détaillés. Son optique avancée, son équipement de mesure et ses systèmes d'imagerie sont conçus pour permettre une analyse rapide, précise et répétable, permettant des processus d'inspection plus fiables et efficaces avec des rendements plus élevés de masques et de substrats sans wafer. Le système offre également des coûts d'acquisition et d'exploitation faibles, ce qui en fait une option attrayante pour les fabricants de plaquettes et de masques.
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