Occasion LASERTEC PEGSIS P100 #9140823 à vendre en France

LASERTEC PEGSIS P100 est un système d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour la recherche et le développement de procédés avancés de photolithographie. Il fournit les capacités nécessaires de détection et de classification des défauts, combinant à la fois les technologies de balayage de surface par rotation et les méthodes basées sur l'image. Les capacités d'analyse du P100 permettent d'évaluer plus finement la taille, la position et les autres caractéristiques de chaque défaut, en fournissant une évaluation rapide et le dépannage de tout problème pouvant survenir dans le processus de conception. Le P100 est équipé de capacités avancées de balayage de rayons X à 4 voies, d'un système de reconnaissance de motifs dédié et d'algorithmes sophistiqués de comparaison de conception. Le balayage par rayons X à 4 voies permet d'identifier de manière ciblée des caractéristiques topographiques complexes et des défauts fins en profondeur ou anormaux. Ce système de balayage permet de mesurer et d'analyser avec précision ces caractéristiques, en fournissant les données quantitatives nécessaires à l'évaluation quantitative des différents aspects de la structure et de la composition du masque et de la plaquette. Le P100 est également conçu avec des systèmes de reconnaissance et de comparaison de motifs pour la détection automatique des défauts communs de masque et de plaquette. Ces systèmes sont spécifiquement conçus pour assurer une identification rapide et efficace des défauts et pour prédire et anticiper les changements dans la structure des plaquettes et des masques. Les systèmes de reconnaissance de motifs sont également capables d'effectuer une analyse de similarité d'image, ce qui aide à identifier et à corroborer des défauts similaires qui peuvent être liés à une conception d'ingénierie. L'analyse de similarité d'image est complétée par les algorithmes de comparaison de conception basés sur les caractéristiques du P100 qui permettent une évaluation complète des différents aspects de la structure du masque et de la plaquette. En comparant différents modèles, le P100 est équipé pour identifier les similitudes et les différences entre eux, et produire des corrélations entre le processus de conception et toute anomalie de masque ou de plaquette. PEGSIS P100 est ainsi conçu pour fournir des capacités avancées d'inspection de masques et de plaquettes avec la capacité de détecter et classer rapidement les défauts. Avec la combinaison de ses algorithmes de numérisation des rayons X, de reconnaissance de motifs et de comparaison de conception, le P100 fournit des aperçus analytiques puissants et polyvalents qui peuvent être utilisés pour dépanner rapidement et optimiser tout processus de conception.