Occasion LEICA INS 300 #9298489 à vendre en France

ID: 9298489
Style Vintage: 2005
Wafer defect inspection system 2005 vintage.
LEICA INS 300 est un masque de métrologie semi-conducteur de pointe et un équipement d'inspection de plaquettes utilisé dans la fabrication microélectronique. Cette machine hautement spécialisée utilise une combinaison d'optique supérieure, d'imagerie haute résolution et de commandes de mouvement précises pour évaluer avec précision les caractéristiques nécessaires pour une large gamme d'applications de masque et de plaquettes. La machine dispose d'un environnement étanche et sans air qui garantit une clarté optique et un champ de vision de 30 mm. Son ensemble laser à balayage permet un haut degré de précision d'imagerie, fournissant une résolution allant jusqu'à 0,7 microns. En outre, le système d'imagerie numérique polyvalent peut prendre jusqu'à 10 images par seconde, ce qui assure une fidélité maximale des images capturées. INS 300 utilise de puissants algorithmes logiciels personnalisés afin d'optimiser ses capacités d'imagerie et d'analyse. Ses algorithmes sophistiqués lui permettent d'identifier et d'analyser rapidement les modèles et les défauts grâce à une variété de techniques standard et propriétaires. Il s'agit notamment de la mesure d'imagerie par résolution optique (ORIM), de la spectroscopie infrarouge à transformée de Fourier (FTIR) et des techniques de corrélation numérique croisée (DCC). Il offre également à ses utilisateurs la possibilité de créer leurs propres algorithmes personnalisés pour répondre à des exigences spécifiques. Pour améliorer encore sa précision et sa fiabilité, LEICA INS 300 est équipé de différents régulateurs de mouvement, servomoteurs et accéléromètres. Ces composants permettent à l'unité d'ajuster rapidement et précisément les sensibilités des différents mouvements pour différentes conditions. L'INS 300 garantit une performance, une fiabilité et une précision globales. C'est un choix idéal pour une grande variété de tâches d'inspection, des tests optiques de base aux applications complexes de métrologie. Avec une architecture de machine supérieure et des mesures précises, il peut aider à s'assurer que les masques utilisés pour la fabrication ont le plus haut niveau de fonctionnalité possible.
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