Occasion LEICA / VISTEC INS 3300 #9043670 à vendre en France

LEICA/VISTEC INS 3300 Masque et Wafer Inspection Equipment est conçu pour l'analyse efficace des masques et wafers. Il convient à la recherche de motifs de masques optiques et d'éléments de circuits optiques critiques aux étapes de production, de recherche et de développement de la fabrication de semi-conducteurs. LEICA INS 3300 est conçu pour une intégration maximale du flux de travail, permettant son intégration dans les lignes de production existantes. Le système optique comprend une caméra CCD, un moniteur LCD haute résolution, un étage incliné x-y-z de précision, et une unité optique très efficace avec un objectif d'immersion et un dispositif de correction du centre. La machine peut être utilisée conjointement avec un logiciel de microscopie et d'imagerie en option (LEICA MOM Suite), ce qui en fait un outil idéal pour la surveillance des processus et l'inspection des défauts. L'outil VISTEC INS 3300 offre une large gamme de fonctions de mesure allant des inspections manuelles simples aux séquences d'inspection entièrement automatisées. Les algorithmes d'inspection avancés détectent les dysfonctionnements dans les masques et les plaquettes qui ne sont pas visibles à l'œil, comme la contamination, les défauts liés à la contamination, les fosses non attendues, les objets étrangers, les particules ou les taches isolées. De plus, l'actif a une caractéristique unique de « sentier de bord », qui affiche clairement une plaquette ou le bord extérieur du masque. INS 3300 Masque et Wafer Inspection Model fournit deux options de scan/résolution et deux options de focus. L'option haute résolution fournit une résolution d'image de 0,2 µm et une vitesse de balayage de 300 lignes/s. La résolution de base offre une résolution d'image de 0,8 µm et une vitesse de balayage de 200 lignes/s. L'option focus peut être réglée en mode manuel ou automatique ; en mode manuel, l'utilisateur peut régler le foyer manuellement, et en mode automatique, l'équipement se concentre automatiquement sur la surface de l'objet. Le système comprend également des composants de haute qualité tels qu'une unité d'éclairage rétro-lumineux intégrée pour un éclairage lumineux et uniforme. Un composant de refroidissement intégré assure une performance stable et fiable de la machine même à des températures plus élevées. En outre, LEICA/VISTEC INS 3300 Mask & Wafer Inspection Tool est conforme aux normes internationales telles que SEMI-S2 et CENELEC-EN50660-2. LEICA INS 3300 Masque et Wafer Inspection Asset est un modèle d'inspection sophistiqué, offrant des performances de haute qualité dans les tâches d'inspection de wafer et de masque les plus difficiles. Il fournit de nombreuses fonctionnalités avancées pour des enquêtes à haute vitesse, précises et critiques de répétabilité. Toutes ces caractéristiques, ainsi que sa facilité d'intégration dans de plus grands systèmes, font de l'équipement VISTEC INS 3300 un excellent choix pour les inspections de masques et de plaquettes les plus complètes et fiables.