Occasion LEICA / VISTEC INS 3300 #9200028 à vendre en France

LEICA/VISTEC INS 3300 Masque et Wafer L'équipement d'inspection est un outil puissant et fiable pour détecter et évaluer les défauts de divers substrats, y compris les plaquettes semi-conductrices, les masques et les panneaux plats. Il dispose d'une résolution optique avancée de sous-microns et de capacités de cartographie et d'analyse automatisées, ce qui le rend idéal pour détecter de très petits défauts et des zones de faible contraste qui sont par ailleurs difficiles à détecter. Le système est conçu pour des environnements de production à haut débit et peut traiter des centaines d'échantillons par heure. Il comprend une gamme complète de tâches d'inspection automatisée, y compris la caractérisation automatisée des défauts, l'identification automatisée des motifs et la détection automatisée des défauts. Les capacités d'imagerie haute résolution de l'unité permettent aux utilisateurs d'inspecter toute la gamme de dispositifs et d'interconnecter les caractéristiques des substrats inspectés. La machine se compose de plusieurs composants. Le Masque Arrangement Tool permet aux utilisateurs de configurer l'inspection pour identifier les structures sur un masque en vue d'une comparaison avec une image correspondante. Le Workbench est l'interface de contrôle pour gérer toutes les tâches d'inspection. Les positionneurs de balayage automatisés assurent un déplacement précis et rapide du masque dans le champ de vision. Les technologies d'inspection de l'outil vont des multiples techniques d'éclairage « lumière blanche » à l'infrarouge, en passant par les modes d'éclairage spécialisés. L'actif est également équipé d'algorithmes spécialisés pour permettre la détection automatisée des défauts du pochoir et de la bille de soudure. En outre, le modèle peut être configuré pour effectuer l'inspection de laminage de filière empilée. L'équipement est conçu pour traiter une variété de substrats, des matériaux non-semi-conducteurs aux résistances ultra-sensibles. Cette polyvalence rend le système adapté à un large éventail d'applications dans des industries telles que la biomédicale, la nanotechnologie, l'aérospatiale et l'optique. Les résultats de l'inspection sont affichés sur l'interface utilisateur de l'unité, qui affiche une représentation graphique intuitive et interactive des résultats. Cela comprend des diagrammes de défauts faciles à publier et des capacités de déclaration automatique des défauts qui fournissent des informations détaillées sur les paramètres d'essai et les résultats des défauts. LEICA INS 3300 Masque et Wafer Inspection machine est un outil avancé et fiable pour la détection et l'analyse des défauts. Ses fonctionnalités automatisées, associées à ses capacités d'imagerie haute résolution, permettent aux utilisateurs de détecter de très petits défauts et des zones de faible contraste dans une variété de substrats. En outre, l'interface utilisateur de l'outil fournit une représentation graphique intuitive et interactive des défauts, faisant de l'analyse des défauts et de la déclaration une tâche simple et simplifiée.