Occasion LEICA / VISTEC MIS 200 #293671055 à vendre en France

LEICA/VISTEC MIS 200 est un équipement innovant d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour examiner l'intégrité des modèles de photolithographie pendant le processus de production. Il dispose d'une conception unique de l'optique d'imagerie, combinée à des algorithmes de traitement spéciaux, permettant de former et d'analyser rapidement et précisément des images à haute résolution de caractéristiques nano-échelle. Les optiques d'imagerie utilisées dans LEICA MIS 200 sont basées sur un condenseur à haute ouverture numérique (N.A.), associé à un objectif sélectif de champ et un appareil photo numérique refroidi. Le système est capable d'acquérir rapidement des images haute résolution de motifs nano-échelle avec un large champ de vision. Les images obtenues sont extrêmement précises, avec des détails jusqu'à moins de 1 nanomètre visible. De plus, l'unité est capable d'acquérir des motifs d'interférence qui peuvent être utilisés pour mesurer avec précision la qualité des motifs et pour effectuer l'identification des défauts. Les puissants algorithmes logiciels utilisés par VISTEC MIS 200 peuvent extraire des informations des images acquises qui sont extrêmement utiles pour l'analyse des défauts. Par exemple, la machine est capable de détecter des écarts même très faibles dans les caractéristiques géométriques de n'importe quel motif, ainsi que d'identifier des défauts critiques sur une plaquette. En outre, le logiciel est capable de mesurer automatiquement les résistances de contact d'un réseau de dispositifs, ce qui permet une évaluation rapide et fiable des paramètres critiques du dispositif. L'outil MIS 200 est également équipé d'un certain nombre de fonctionnalités pour la gestion des données. Ces caractéristiques comprennent un actif de traçabilité qui permet un suivi complet de toutes les images acquises, ainsi qu'une fonction de stockage de données pour stocker toutes les images acquises et les résultats pour référence future. LEICA/VISTEC MIS 200 est donc un outil standard de l'industrie pour l'inspection des caractéristiques nano-échelle dans les processus de photolithographie. Il est capable d'acquérir des images à très haute résolution, permettant une analyse approfondie des défauts et une évaluation détaillée de la qualité des dispositifs. En outre, le modèle dispose également de fonctionnalités avancées de gestion des données et de traçabilité, permettant aux utilisateurs de stocker et d'accéder à toutes les images et résultats acquis.