Occasion LEICA / VISTEC MIS 200 #293749903 à vendre en France

LEICA/VISTEC MIS 200 est un équipement sophistiqué d'inspection des masques et des plaquettes utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système utilise la meilleure technologie d'inspection optique, associée à des outils d'optique et d'imagerie exceptionnels, pour fournir des résultats précis, fiables et reproductibles. L'unité est spécialement conçue pour l'inspection des photomasques et ses capacités de grossissement élevées, sa flexibilité et sa technologie d'imagerie couleur avancée en font la machine d'inspection des masques la plus complète disponible. L'outil utilise une technologie optique de pointe conçue pour fournir une qualité d'image et une résolution exceptionnelles, produisant une grande variété de résultats d'inspection pour un large éventail de tailles, de formes et de matériaux. L'actif a une conception modulaire et utilise une variété de capacités optiques, y compris 5x à 40x grossissement natif pour l'imagerie/inspection (plage de zoom jusqu'à 500x), l'éclairage par fibre optique, le champ lumineux, le champ noir et l'éclairage oblique, ainsi que l'inspection automatisée du champ noir et du champ lumineux. Le modèle s'interface avec la suite logicielle d'imagerie et d'analyse ARRIANA LAB pour permettre la révision et l'optimisation des défauts en temps réel de l'opacité, de l'attrait, de l'imagerie détaillée et d'autres applications. L'équipement dispose de capacités automatisées d'acquisition d'image et de mise au point automatique, d'une gestion des couleurs robuste et d'un logiciel avancé de reconnaissance des motifs. Il dispose également de la technologie de visualisation multiple d'images (MIV) qui permet la visualisation simultanée d'images multiples, pour fournir l'assurance de la qualité et l'analyse des défauts. Le système est équipé d'une architecture de réseau client/serveur complète qui permet un partage rapide et facile des données entre le masque et d'autres outils de diagnostic. L'unité comprend un ensemble de correction de l'effet de proximité (PEC) qui simule avec précision l'effet des artefacts d'imagerie tels que ceux causés par la poussière et les rayures. La machine peut également être utilisée pour l'inspection des plaquettes, des pièces et des assemblages. Il offre une imagerie haute résolution et des capacités de faible luminosité pour détecter des particules minuscules, des rayures et d'autres anomalies qui peuvent survenir pendant le traitement des plaquettes. Ses capacités d'analyse avancées permettent aux utilisateurs d'identifier et de corriger rapidement les problèmes potentiels. LEICA MIS 200 est un atout inestimable pour les fabricants de semi-conducteurs, car il contribue à assurer une production sûre, fiable et à haut rendement. Il est idéal pour les applications de production, de contrôle de la qualité et d'analyse des défaillances, fournissant d'excellentes performances et des résultats de contrôle de la qualité.