Occasion LEICA / VISTEC MIS 200 #9266272 à vendre en France

LEICA/VISTEC MIS 200 masque et wafer inspection equipment est un système de contrôle optique automatisé haute performance conçu pour détecter et analyser les défauts dans les structures des dispositifs semi-conducteurs. L'unité utilise les techniques optiques innovantes d'imagerie et de contrôle de mouvement de précision pour fournir la meilleure détection de défaut possible et la précision sur toute géométrie de processus. LEICA MIS 200 offre une analyse approfondie de la reconnaissance des caractéristiques et des motifs grâce à son traitement dynamique des images. La machine dispose d'une conception modulaire qui permet une large gamme d'options d'expansion, y compris des systèmes d'imagerie améliorés, des systèmes de manipulation de faisceau, métrologie automatisée et périphériques pour la cartographie avancée des défauts. Il comprend également un logiciel personnalisé qui fournit une sélection de longueurs d'onde d'éclairage, grossissement et d'autres paramètres d'outils. Le matériel d'inspection comprend une étape d'inspection brevetée, qui fournit un contrôle précis du mouvement et une capacité de séparation des défauts de haute précision. Le modèle dispose d'un grand champ de vision pour capturer plusieurs appareils dans un seul champ de vue, ce qui maximise le débit et minimise le temps de l'opérateur. Il utilise le décalage de pixels à grande vitesse pour minimiser le flou de mouvement, permettant de détecter avec précision les défauts critiques dans tout le champ de vision. VISTEC MIS 200 comprend un équipement d'éclairage avancé qui fournit la capacité ultime de détection des défauts. Associé au traitement dynamique unique de l'image, il offre une caractérisation et une classification des défauts supérieures. Il utilise un balayage progressif de l'intensité, permettant de détecter les défauts de motif, ainsi que les défauts aléatoires, ce qui permet de mieux comprendre les caractéristiques du dispositif. Le système offre également un puissant moteur de classification des défauts qui regroupe et classe automatiquement les défauts pour un examen et une analyse plus poussés. Ce processus automatisé améliore la visibilité des défauts et augmente le débit unitaire et la précision. En outre, une interface utilisateur intuitive fournit un accès facile et la modification des paramètres et paramètres du programme. La machine d'inspection LEICA est bien adaptée aux fabricants de dispositifs semi-conducteurs allant des petits laboratoires de fabrication aux réglages de production à haut volume. L'outil assure un fonctionnement fiable et une précision accrue dans les processus manuels et automatisés. Avec son imagerie avancée et son contrôle précis du mouvement, il offre une solution efficace pour détecter et analyser les défauts de structure des appareils.