Occasion LEITZ Ergolux #60381 à vendre en France
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ID: 60381
Trinocular with DF and BF
Motorized nosepieces
10x eyepieces
50x, 100x, 250x, 500x, 1000x NPL Plan
6" stage XYZ
5 mega pixel camera/video plus software
Can measure at less than micron level
Can measure exact distance between micron objects.
LEITZ Ergolux Mask & Wafer Inspection Equipment est une machine de pointe qui est utilisée pour inspecter les masques et les plaquettes dans la fabrication et les applications scientifiques. Le système utilise des technologies optiques avancées pour mesurer avec précision et précision les différentes caractéristiques d'une large gamme de types de masques et de plaquettes. L'unité de métrologie optique fournit une précision inégalée et une analyse rapide des données des surfaces inspectées. Le fonctionnement rapide et facile de la machine le rend idéal pour une utilisation dans des environnements de production à haut volume ainsi que de recherche et développement. Ergolux Mask & Wafer Inspection Tool est composé d'une unité de base avec optique intégrée et un modulateur de lumière spatiale (SLM). Le SLM contient les composants nécessaires pour mesurer et analyser la surface du masque ou de la plaquette. Cela comprend une source de lumière laser, un séparateur de faisceau polarisant et des optiques de détection. L'unité de base contient les CPU, DSP et autres matériels nécessaires à l'exploitation de l'actif. Le modèle est capable de détecter et de mesurer des caractéristiques de surface souvent trop petites pour les méthodes traditionnelles, comme les microscopes optiques. Il fournit des données sur un large éventail de paramètres tels que le profil, le déplacement hors plan, la rugosité de surface, la réflectance, la transmission et les caractéristiques structurelles. L'équipement est équipé de capacités avancées d'analyse des données et de visualisation, permettant aux opérateurs de faire rapidement des interprétations significatives des résultats. LEITZ Ergolux Mask & Wafer Inspection System est capable d'effectuer une variété de mesures. Ceux-ci comprennent la texture de surface, l'épaisseur du film, la contrainte, l'angle de flanc, la cote de planéité, la composition du matériau, le profil, le déplacement hors plan, et plus encore. L'unité optique est configurée avec un algorithme de focalisation actif pour assurer des images focalisées à partir d'une gamme de hauteurs. La conception ergonomique de la machine est conçue de manière à ce que les opérateurs puissent travailler confortablement pendant de longues périodes. Ergolux Mask & Wafer Inspection Tool est conçu pour fournir une analyse des données détaillée, précise et répétable, impartiale et fiable. La performance exceptionnelle de l'actif garantit des résultats fiables et reproductibles. La machine est également livrée avec des options complètes de contrôle logiciel et une documentation complète de modèle, rendant l'intégration dans les systèmes d'automatisation facile et sécurisée. LEITZ Ergolux Masque et Wafer Inspection Equipment est le choix idéal pour toute application nécessitant une inspection fiable et précise d'une variété de masques et wafers. Avec ses technologies optiques avancées, sa facilité de fonctionnement et sa conception ergonomique, le système fournit aux utilisateurs un outil efficace et puissant pour produire des résultats précis et reproductibles.
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