Occasion METRICON 2010/M #80299 à vendre en France
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ID: 80299
Prism Coupler
Prism
Laser: 635nm
Dell Optiplex PC: 2GB RAM, 250GB hard disk, 16X DVD-ROM, 19" LCD monitor, Windows7
Compatible with XP/Vista/7 with a serial interface box
2010-NSW-1550: provides operation at additional wavelength of 1550 nm
Options: (1) or (2) TM Option for laser(s).
L'équipement METRICON 2010/M Masque et Wafer Inspection est un outil d'inspection et de mesure optique automatisé et de haute précision utilisé pour la production critique de circuits intégrés. Le système combine trois instruments spécialisés dans une unité intégrée qui sont utilisés pour l'inspection et la mesure des matériaux de masque et de plaquette. Cela permet d'évaluer les caractéristiques des plaquettes au moyen d'une visualisation automatisée, d'un test flexible et d'une classification réussite/échec. METRICON 2010/M se compose d'un étage XY pour l'inspection des défauts de Wafer et de deux instruments optiques pour mesurer les formes et les contours des masques. L'étage XY pilote une plate-forme de balayage en deux dimensions, permettant à la machine de capturer à la fois des images de dessus et de coupe du masque ou de la plaquette. Les instruments optiques comprennent un scatteromètre, qui est utilisé pour mesurer les propriétés de diffusion optique des masques, ainsi qu'un microscope électronique à balayage (SEM). Le SEM est utilisé pour analyser la structure et les caractéristiques des masques, fournissant des images à haute résolution bien adaptées à l'imagerie 3D. Outre ces deux instruments, l'outil METRICON 2010/M comprend également un étage 3D qui permet d'acquérir des mesures de hauteur et de forme de masques ou de plaquettes. Pour ce faire, on utilise un faisceau laser qui balaie la surface et qui permet de construire une image 3D de l'objet considéré. Enfin, METRICON 2010/M actif comprend également un certain nombre de composants logiciels, qui sont utilisés pour automatiser le flux de travail d'acquisition de données à des fins d'analyse. Le logiciel comprend des modèles statistiques, qui permettent une analyse rapide des données, et un module d'extraction de données pour extraire des informations du grand volume de données acquises pour le processus d'inspection. Le modèle METRICON 2010/M est un outil puissant pour les inspections de masques et de plaquettes, offrant une grande précision et précision lors de l'évaluation des caractéristiques. L'utilisation de ces outils permet de raccourcir le cycle d'essai et d'améliorer le rapport coût-efficacité par rapport aux méthodes d'inspection manuelle. L'équipement est utilisé par les principales entreprises de semi-conducteurs dans la production de circuits intégrés, à la fois pour le contrôle de la qualité et la surveillance des processus.
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