Occasion METRICON 2010 #9246090 à vendre en France
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ID: 9246090
Prism coupler
Reflective index: Single / Dual thin film layers
Measurement accuracy and resolution:
Index accuracy: ± .001
Thickness accuracy: ± (0.5% + 50 A)
Index resolution: ± .0005
Thickness resolution: ±0.3%
Refractive index measuring range:
Films and bulk materials with refractive index: 2.45
Films with index up to 2.70 (Depending on film thickness)
Typical measurement time:
10-25 Seconds with standard table
15-75 Seconds with high resolution table
Index measurement of bulk materials / thick films:
Accuracy: ± .001
Resolution: ± .0005
Bulk measurement: 5-20 Seconds
Operating wavelength:
Low power: 0.5mW
He-Ne Laser: 632.8nm
CDRH / BRH Class II
Substrate materials:
Silicon
GaAs
Glass
Quartz
Sapphire
GGG
Lithium niobate
Substrate size: Up to 150 mm²
Prism types / Index range:
200-P-1 / <1.80
200-P-2 / 1.70-2.45
200-P-3 / <2.10
200-P-4 / <2.02
Rotary table step size:
3.0 or 1.5 min
High resolution tables: 0.9/0.45 or 0.6/0.3 min
No-charge option.
METRICON 2010 est un équipement automatisé de pointe pour l'inspection des masques et des wafers conçu pour répondre aux normes les plus élevées en matière d'inspection des semi-conducteurs. Ce système utilise une technologie avancée d'adaptation des motifs et de microscopie optique pour découvrir et classer les défauts du masque et la contamination des plaquettes avec une précision inégalée. En utilisant des algorithmes avancés, 2010 est capable de scanner une plaquette avec une résolution très précise, lui permettant de détecter des défauts jusqu'à 1/100 d'un micron. Des solutions d'éclairage exclusives sont également disponibles pour permettre à METRICON 2010 d'identifier avec précision même les plus petits défauts de toute plaquette inspectée. L'unité fournit un taux de détection efficace pour les particules supérieures à 0,2 um et les défauts submicroniques jusqu'à 0,5 um grâce à sa technologie de caméra 12MP. En plus de mettre l'accent sur l'ensemble de la plaquette, 2010 respecte également les configurations standard de l'industrie de la salle blanche, ainsi que les caractéristiques avancées d'isolation des défauts, qui permettent d'identifier et de dépanner rapidement les zones défectueuses. Cela permet d'assurer un rendement élevé de pièces sur spec ainsi qu'une augmentation de l'efficacité du processus. D'autres caractéristiques de METRICON 2010 incluent un balayage à haute vitesse pour l'inspection du masque entier, et une interface graphique intuitive qui permet une représentation visuelle des endroits défectueux. En montrant des attributs de défaut tels que la taille, la forme, l'emplacement et l'orientation, cela ajoute un niveau plus élevé de précision dans la classification des défauts. La nature automatisée et multifonctionnelle de la machine 2010 en fait un choix idéal pour une production à haut débit, offrant un rapport coût-efficacité et une efficacité accrue tout au long du processus d'inspection des masques et des plaquettes. Cet outil de pointe est conçu pour offrir une précision et des performances supérieures pour aider à relever les défis de l'industrie des semi-conducteurs en pleine croissance.
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