Occasion METRICON PC 2010 #9245359 à vendre en France

METRICON PC 2010 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes développé par METRICON, une entreprise allemande. Conçu pour être utilisé pour l'inspection de haute précision des réticules, des plaquettes ou d'autres masques plats, ce système peut détecter les défauts fins tels que la contamination, les trous d'épingle, les vides, les taches, les débris et d'autres imperfections. L'unité est équipée d'une machine optique avancée avec haute résolution et contraste pour fournir des performances d'imagerie supérieures. La source lumineuse LED utilisée pour l'outil offre un éclairage uniforme et stable avec une excellente précision. Le moniteur intégré présente une interface graphique facile à utiliser, et la détection multi-réflexion garantit une efficacité et une productivité élevées. METRICON PC-2010 est compatible avec divers logiciels d'analyse de données. Ces programmes peuvent détecter divers types de défauts, y compris les particules de saleté et de poussière, les rayures, la contamination, les trous d'épingle, les vides, les taches, les flocons et les irrégularités d'épaisseur ou d'apparence. L'actif peut également vérifier les désalignements dans les marques d'alignement. PC 2010 est également équipé d'une variété de fonctions électriques, mécaniques et de commande de mouvement, ce qui le rend adapté à un balayage rapide et précis. Le modèle est conçu pour réduire la fatigue des opérateurs et améliorer l'efficacité. Il prend également en charge la logique de signalisation standard pour le traitement et l'évaluation des résultats. L'équipement peut être élargi pour inclure de nouvelles fonctionnalités telles que la capacité de mesurer des valeurs de coordonnées chromatiques, le balayage de compteurs ponctuels, la reconnaissance avancée de motifs, ou des sorties de données spéciales pour une utilisation en robotique. En outre, PC-2010 peut être utilisé avec des systèmes de tri manuel ou automatique. Ce système est bien adapté aux défis tant scientifiques qu'industriels. Il peut fournir des informations sur les propriétés optiques des masques, ainsi que des résultats sur la qualité des dispositifs semi-conducteurs ou la contamination des particules. Il offre également la possibilité d'une analyse détaillée de l'image et peut servir de base à d'autres conceptions d'unités.