Occasion MICRO-METRIC MicroLine ML420 #9266732 à vendre en France

MICROMETRIC MicroLine ML420 Masque et Wafer L'équipement d'inspection est conçu pour répondre aux exigences de plus en plus strictes des procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il utilise des technologies optiques de pointe et des techniques de métrologie pour analyser l'intégrité des dispositifs semi-conducteurs. Le ML420 est capable d'inspecter des motifs à haute densité, à plusieurs niveaux, des structures de circuits, des caractéristiques de sous-microns et la formation de défauts à des profondeurs allant jusqu'à deux microns. Le système dispose d'un étage automatisé qui peut scanner et inspecter jusqu'à une tranche de 250 mm à des vitesses allant jusqu'à 4K scans/seconde. Le ML420 est également équipé d'une fonction unique Spin Scan qui peut faire tourner des plaquettes lors de l'inspection avec certaines zones d'intérêt/défaut mis en évidence. Cela permet un examen plus approfondi de chaque fonctionnalité. De plus, l'unité comprend un module FPV (Focus Per View) automatisé qui ajuste les champs d'image tout en scannant pour compenser la topographie de la surface de la plaquette, offrant une précision et une précision accrues. Le ML420 dispose également d'un puissant algorithme Light Path Process (LPP) qui détecte les motifs et les défauts basés sur des critères statistiques, minimisant le besoin de validation manuelle des données par les utilisateurs. Le ML420 contient également des algorithmes intégrés d'amélioration de la qualité d'image (IQE). Ces algorithmes améliorent automatiquement les images acquises, ce qui élimine le besoin de réglage manuel des valeurs de gain et d'offset, améliorant la répétabilité des processus. La machine peut également être utilisée pour un large éventail d'applications telles que Resist Imaging, SubcPixel Edge Detection et Cross-Line Measurement Inspection grâce à ses fonctions d'optimisation robustes et ses paramètres de fonctionnement configurables. Le ML420 comprend également un outil de gestion intégrée des défauts et fournit un flux de travail automatisé pour l'isolement, la caractérisation, la détection, la classification et le repérage des défauts. Cela permet de réduire le temps d'inspection et d'éviter les défauts critiques. En outre, l'actif comprend également des capacités d'enregistrement des données, de déclaration et de diagnostic à distance pour aider les utilisateurs à résoudre les problèmes en temps réel. Les fonctionnalités avancées du modèle MicroLine ML420 Mask & Wafer Inspection en font une solution formidable pour les dispositifs semi-conducteurs. Il fournit des résultats fiables et efficaces pour l'inspection de structures de haute densité, de sous-microns et de circuits complexes qui peuvent conduire à des rendements améliorés et à un contrôle accru des processus. Cela fait du ML420 un choix de choix pour les organisations à la recherche de solutions d'inspection optique avancées.