Occasion NANOMETRICS 200 #9226184 à vendre en France

NANOMETRICS 200 est un équipement de pointe d'inspection des masques et des plaquettes qui offre des capacités de métrologie 3D de haute précision et de résolution des défauts. Il est utilisé pour détecter les défauts de surface et de sous-surface des dispositifs semi-conducteurs et des matériaux. 200 combine des technologies avancées d'imagerie nanométrique avec des algorithmes complets de traitement d'image. Le système offre une variété de modes de mesure pour l'inspection du masque et de la plaquette, et peut même être configuré pour mesurer la forme du bord du masque ou de la plaquette. L'unité se compose d'une unité matérielle qui contient un tableau de lentilles haute résolution, une tête de balayage, un dispositif de capture d'image, et une machine d'étage motorisé qui contrôle la position et le mouvement de l'étage. L'unité matérielle est reliée à un ordinateur qui fournit l'interface utilisateur, des algorithmes de traitement d'images et d'autres fonctions. La suite logicielle comprend une variété d'outils pour inspecter les masques et les plaquettes, tels que le suivi des défauts, le contrôle statistique des processus, la reconstruction avancée de la surface et l'optimisation des processus. NANOMETRICS 200 utilise diverses techniques d'imagerie pour diverses applications. Ces techniques d'imagerie comprennent l'imagerie par focalisation réticulaire (RFI), l'imagerie haute résolution (HRI), l'imagerie par lumière modelée (PLI), l'imagerie par réseau régional (AAI) et l'imagerie par faisceau électronique (EBI). Ces techniques permettent de s'assurer que tous les défauts de surface et de sous-surface sont détectés avec précision et fiabilité. En plus de ses capacités de masque de précision et d'inspection des plaquettes, 200 peuvent être utilisées pour mesurer les caractéristiques de forme, résoudre les problèmes de processus liés à la dimension et détecter même les plus petits défauts induits par le processus. L'outil est également équipé d'un système automatisé de classification et de tri des défauts, ce qui facilite l'identification et la distinction entre les différents types de défauts. NANOMETRICS 200 est capable de scanner et de mesurer de grandes surfaces, lui permettant de gérer facilement plusieurs tâches d'inspection de masques et de plaquettes. Ses algorithmes d'analyse avancés peuvent détecter même les plus petites minutes de défauts, garantissant que les clients reçoivent des résultats précis. Son fonctionnement fiable, combiné à son interface utilisateur intuitive, en fait un excellent choix pour les tâches d'inspection des masques et des plaquettes.