Occasion NANOMETRICS 210 #9123978 à vendre en France

ID: 9123978
Taille de la plaquette: 1-6"
Thin film thickness measurement systems, 3"-6" Includes: Photoresists Polyimides Polysilicon Oxides Nitrides Ranges: 100A to 500kA Measurement time: 2.5 seconds.
NANOMETRICS 210 est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes idéal pour la fabrication et l'inspection de semi-conducteurs. Ce système utilise un algorithme de balayage par imagerie spectrale de pointe pour fournir des résultats d'inspection rapides et précis. L'unité fournit deux modes de contrôle indépendants, un mode haute résolution et un mode haute dynamique, permettant aux utilisateurs d'inspecter un large éventail de substrats avec détail et clarté. 210 comprend un outil optique avancé composé de composants optiques avancés, tels que des lentilles objectives, des boucliers lumineux et des sources d'éclairage. Cet actif optique a une excellente résolution de 0.5µm, assurant des résultats précis et fiables. En outre, l'équipement optique du modèle utilise le balayage en fente et le balayage sur le terrain pour la collecte de données à grande vitesse et en profondeur. En outre, le système NANOMETRICS 210 intègre un algorithme innovant d'imagerie en chaîne bimolaire monochrome. Cet algorithme permet à l'unité de détecter des défauts dans les motifs et les dimensions d'un large éventail de substrats, y compris l'échelle transparente, métallique et grise. La combinaison de la machine optique et de l'algorithme d'imagerie assure un traitement d'image précis et rapide. Cette combinaison permet à l'outil de générer des images haute résolution avec une plage de plus de 10µm et une excellente plage dynamique. En outre, l'actif est équipé d'une suite logicielle modulaire, capable d'analyse et d'inspection des défauts. Son logiciel comprend des outils pour les inspections de masques et la classification des défauts, la mesure et l'examen des niveaux de défauts, et la capacité de sélectionner, localiser et mesurer les défauts tout en maintenant des taux de fausses alarmes faibles. 210 a été conçu pour répondre aux exigences de la production de semi-conducteurs. Le modèle offre un débit rapide, une haute résolution, une précision, de faibles taux de fausses alarmes et une variété de techniques d'analyse mises en œuvre dans son logiciel. Ces composants, ainsi qu'une large gamme de substrats et de types de défauts qu'il peut inspecter, permettent une production rapide et précise de semi-conducteurs à haut rendement.
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