Occasion NANOMETRICS 565 094 329 #9242380 à vendre en France

Le masque NANOMETRICS 565 094 329 et l'équipement d'inspection des plaquettes est un outil optique avancé qui permet aux photolithographes et aux ingénieurs de détecter les défauts au niveau de la résolution des nanomètres. Cela leur permet d'identifier les défauts microstructuraux dans la fabrication de semi-conducteurs et d'autres micro-dispositifs avancés, ce qui conduit à terme à des rendements améliorés et à un délai de mise sur le marché plus rapide. Le système est conçu pour être utilisé dans les salles propres de toute installation avancée de production de puces, en utilisant le même environnement qui est utilisé pour exécuter les processus de fabrication de puces. Dans ces salles blanches, un masque NANOMETRICS et une unité d'inspection des plaquettes sont déployés pour identifier les débris d'objets étrangers, ou « FOD », qui peuvent être entrés dans la zone de travail entre les couches de la conception. En plus des FOD, la machine est également capable de détecter les défauts de surface, les désalignements et autres irrégularités qui peuvent exister dans le dispositif. Pour ce faire, on utilise la capacité de résolution nanométrique de l'outil pour inspecter couche par couche le dispositif afin d'identifier de telles irrégularités. Les algorithmes d'appariement de motifs utilisés par l'actif sont capables de reconnaître des motifs qui peuvent indiquer la présence d'un défaut. Cela garantit également la plus grande fidélité des caractéristiques inspectées. Le modèle NANOMETRICS utilise également des filtres pour visualiser l'image de l'échantillon en cours d'inspection. Ces filtres utilisent la lumière ultraviolette, la lumière visible, la lumière infrarouge et d'autres longueurs d'onde pour fournir différents niveaux de résolution afin d'assurer la détection des défauts. L'équipement comprend également une interface d'enregistrement d'images de haute qualité, permettant aux ingénieurs en photolithographie de stocker des images pour une inspection rapprochée. Ces images peuvent être stockées, rappelées ou partagées entre plusieurs membres de l'équipe d'ingénierie logicielle. En plus d'être capable de détecter les défauts à la résolution nanométrique, 565 094 329 est également livré avec plusieurs autres fonctionnalités telles que les commandes de mouvement de scène, les fonctions de mesure automatique, plusieurs régions d'intérêt, une interface utilisateur intuitive, et un contrôle matériel facile à utiliser. Le système d'inspection des masques et plaquettes NANOMETRICS 565 094 329 est le premier outil d'inspection de la qualité et de détection des défauts dans la fabrication de semi-conducteurs et d'autres dispositifs micro-électroniques. Cette unité a révolutionné l'industrie, et a permis des rendements plus élevés et des vitesses plus rapides sur le marché.