Occasion NANOMETRICS 6100X #9157662 à vendre en France

L'équipement NANOMETRICS 6100X Masque et Wafer Inspection est une solution d'imagerie performante et polyvalente pour tester et inspecter des photomasques et des wafers. C'est un système d'imagerie sans aberration qui offre un niveau inégalé de résolution et de précision. Il fournit une résolution optique de 4k avec plus d'un trillion de pixels au capteur d'imagerie. L'unité NANOMETRICS 6100 X Masque et Wafer Inspection utilise une technologie de traitement d'image de pointe pour obtenir le plus haut niveau d'analyse d'image et de reconnaissance de motifs. Il fournit une grande profondeur de champ et une gamme dynamique optimale pour une large gamme d'applications d'imagerie. Il dispose également d'une machine d'éclairage avancée qui comprend un mélange de champ lumineux, de champ sombre, d'éclairement oblique et polarisé. Cet outil d'éclairage peut être combiné avec la métrologie à balayage laser, les détecteurs de bruit faible et l'imagerie haute résolution pour créer une solution d'imagerie idéale et polyvalente. 6100X L'actif Masque et Wafer Inspection permet de mieux cibler les images à haute résolution dans un grand champ de vision. Avec la capacité d'image des motifs de répétition, il peut être utilisé pour inspecter multicouches, multi-niveaux, et structures à motifs complexes. Le modèle dispose également d'une fonction d'auto-apprentissage avancée qui peut réduire les défauts et améliorer la précision des images. 6100 X Masque et Wafer L'équipement d'inspection dispose d'une interface utilisateur intuitive et de puissantes capacités d'analyse d'image. Il peut être adapté pour inclure une analyse complète des plaquettes ainsi que des algorithmes de contrôle statistique des processus (RCP) pour exiger l'analyse des motifs. Cette combinaison d'optique haute performance, d'imagerie et de technologie de traitement d'image assure le meilleur rendement possible et le contrôle fiable des processus. NANOMETRICS 6100X Mask and Wafer Inspection System est une solution d'imagerie avec une combinaison parfaite d'interface utilisateur intuitive, de traitement d'image avancé et d'optique haute performance. C'est une unité idéale pour la caractérisation et l'inspection des photomasques et des plaquettes dans la production de dispositifs semi-conducteurs. Cette machine peut être utilisée pour détecter et analyser des structures complexes avec une plus grande profondeur de champ et des images à plus haute résolution, tout en fournissant des résultats fiables et précis pour le contrôle des processus.