Occasion NANOMETRICS 7000-019630 #9095996 à vendre en France

NANOMETRICS 7000-019630 Masque & Wafer Inspection Equipment est un système avancé d'inspection des plaquettes et des masques, conçu pour fournir une vue approfondie et détaillée des wafers et des caractéristiques des masques. Il dispose d'un objectif breveté unique qui permet d'acquérir des images jusqu'à 1000 fois plus rapidement que les systèmes traditionnels. Cela permet une imagerie beaucoup plus haute résolution, rendant plus facile de dépanner et documenter les défauts dans les plaquettes et les masques. Cette machine utilise une variété d'outils visuels et de balayage tels que les microscopes numériques, les caméras CCD et les systèmes optiques. Ces outils sont capables de mesurer une variété de caractéristiques sur une plaque et une surface de masque, fournissant une vue complète de la surface de la plaque et du masque. L'actif de visualisation optique de l'outil est capable d'acquérir des images de 2,5-1,6 μ m dans toute la surface de la plaquette et du masque. Il utilise un modèle de sonde optique sur mesure pour acquérir des images détaillées et des domaines d'intérêt. Les logiciels avancés permettent une manipulation facile et la reconstruction 3D des images. NANOMETRICS Equipment utilise également des étages multi-axes et peut déplacer la plaquette et masquer dans les directions X, Y et Z. Cela permet une cartographie précise des caractéristiques et des défauts à la surface de la plaquette et du masque. La scène peut tourner et basculer pour changer la vue et inspecter les zones, aussi petites que 0,1 μ m. Le système est également équipé d'une puissante analyse d'image et d'une capacité d'affichage en temps réel. Le logiciel puissant est capable de détecter avec précision les défauts des plaquettes et des masques, ainsi que d'effectuer des comparaisons d'images complexes. Les résultats de l'analyse des défauts peuvent être partagés entre plusieurs employés et systèmes de suivi des défauts. 7000-019630 Masque et Wafer Inspection Unit est une machine puissante et modulaire conçue pour observer et documenter efficacement et avec précision les caractéristiques des wafer et masques. Avec sa capacité d'imagerie optique haut de gamme, son étage multi-axes, son analyse d'image et sa technologie d'affichage en temps réel, c'est une excellente solution pour ceux qui cherchent un examen approfondi de leurs surfaces de plaquettes et de masques.