Occasion NANOMETRICS 7000-033895 #9242378 à vendre en France

ID: 9242378
Style Vintage: 2011
Integrated metrology OCD / Film analysis system 2011 vintage.
L'équipement NANOMETRICS 7000-033895 'Mask & Wafer Inspection' est un outil d'inspection optique haute performance utilisé dans la production de circuits intégrés. Il est conçu pour fournir une analyse d'image rapide et précise des caractéristiques de la couche de contact pour les réticules, ou les masques, et les plaquettes. Le système comprend l'ordinateur central, l'étage et l'unité optique. L'ordinateur central est une plate-forme multifonctionnelle qui abrite la scène, l'opto-électronique, les systèmes de contrôle des mouvements de précision et l'interface utilisateur. L'ordinateur central est conçu pour fournir une utilisation fiable et efficace avec une large gamme de fonctions de capture et d'analyse d'images. L'étage est une plate-forme porte-air de précision, capable de se situer précisément et en douceur sur les axes x et y en combinant la technologie du codeur et les codeurs optiques linéaires. Il est également construit avec une machine motorisée de précision, permettant un positionnement précis du substrat Mask & Wafer. L'outil optique est conçu pour fournir une imagerie haute résolution (jusqu'à 22 millions de pixels) de couches de contacts sur des substrats. L'ensemble de l'actif est logé dans un environnement noir non réfléchissant, permettant une plus grande précision avec un minimum de réflexions optiques. L'optique contient également plusieurs lasers de grande puissance et des super lentilles pour l'éclairage des masques et des plaquettes. Le positionnement précis de ces composants améliore grandement les performances du modèle. Le logiciel embarqué permet la détection automatique des caractéristiques de la couche de contact avec un haut degré de précision. En outre, le logiciel supporte des mesures orientées objet et un logiciel de conception assistée par ordinateur (CAO) qui permet à l'utilisateur d'analyser et de placer un grand nombre de fonctionnalités de contact sur un seul substrat avec une seule image. Avec ce niveau de précision, des simulations de conception et des évaluations pourraient être réalisées. Enfin, l'équipement est conforme à la plupart des normes de l'industrie et est capable de vérifier les caractéristiques de contact à 20nm, ce qui est inférieur à une longueur d'onde de la lumière visible. Ceci est incroyablement avantageux pour la réalisation de circuits intégrés avancés. Ce système utilise les meilleurs composants et fonctions logicielles disponibles pour fournir des résultats robustes et cohérents avec une grande précision, ce qui en fait l'outil idéal pour tout travail d'inspection de couche de contact.
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