Occasion NANOMETRICS 9010 #293590700 à vendre en France

NANOMETRICS 9010 Masque et Wafer Inspection Equipment est un système automatisé d'inspection optique en ligne qui permet de mesurer, caractériser et classer divers défauts sur les motifs de wafer. Il est utilisé pour détecter et classer diverses impressions, défauts et masques lors de la fabrication de circuits intégrés semi-conducteurs. L'unité est basée sur le principe de l'imagerie optique et utilise des méthodes d'imagerie haute résolution pour permettre un niveau plus élevé de précision et de répétabilité. La machine est constituée de plusieurs systèmes optiques performants qui lui permettent de capturer et d'analyser des images de plaquettes et de masques de manière non destructive. Il est livré avec une caméra CCD monochrome haute résolution pour l'imagerie et un logiciel intégré pour les inspections et les mesures. Tous les composants sont intégrés ensemble sur une plate-forme de précision qui permet des résultats précis et reproductibles. L'outil dispose d'une grande surface de travail pour mesurer de grands masques et plaquettes, avec un champ de vision maximum de 180 mm x 180 mm. L'actif utilise ses stéréoscopes haute performance, qui possèdent un 10x/0.25NA, un 40x/0.5NA et un 90x/1.1NA. 9010 Masque et Wafer Inspection Model est capable de fournir des résultats de haut niveau de divers types de motifs et masques de wafer. Il peut détecter et classer les défauts sur une variété de matériaux, y compris le silicium, le polymère et les substrats organiques. L'équipement dispose d'une bibliothèque intégrée de paramètres et peut être programmé pour mesurer une variété de caractéristiques de mise en page, y compris la largeur de ligne, le pas et les bords. Il peut également détecter des erreurs liées au processus telles que le chevauchement, le pontage et la couture. De plus, il est capable de piquer automatiquement les bords des masques d'inspection, de piquer les sous-pixels et d'inspecter les post-piqûres via des classes de cartes sauvages. Ceci permet de s'assurer que le masque qui est vu par la plaquette est valide et ne contient pas d'erreurs. Les résultats des inspections peuvent être analysés et stockés dans divers formats tels que PDF, TIFF et CSV. L'interface utilisateur est simple et conviviale et offre un moyen facile de visualiser et d'analyser les données. L'utilisateur est également en mesure de personnaliser les paramètres du système afin de spécifier le type de défauts qu'il est intéressé à détecter. Dans l'ensemble, NANOMETRICS 9010 Masque et Wafer Inspection est un outil polyvalent et précis utilisé pour détecter et classer divers modèles et masques de wafer. Avec son interface utilisateur simple et sa capacité à capturer et analyser des images haute résolution, il est un outil inestimable pour l'industrie des semi-conducteurs.