Occasion NANOMETRICS 9010 #293764395 à vendre en France

NANOMETRICS 9010 Masque et Wafer Inspection Equipment est un système automatisé avancé pour l'inspection et l'examen des photomasques et wafers. L'unité peut inspecter la qualité des masques et des plaquettes, ainsi que détecter les défauts et les contaminants dans les surfaces des plaquettes et des masques. La machine est basée sur un étage d'échantillonnage XYZ motorisé, une caméra haute résolution et un outil de focalisation automatisé. L'étape d'échantillonnage XYZ est conçue pour positionner avec précision le masque et la plaquette pour inspection. La caméra haute résolution est utilisée pour visualiser la plaquette ou le masque. L'atout auto-focus ajuste rapidement et précisément le foyer de la caméra à la position optimale, garantissant que la surface de la plaquette ou du masque est affichée de manière optimale. 9010 est équipé d'un modèle de traitement d'image avancé. L'équipement de traitement d'images comprend une gamme d'algorithmes de traitement d'images pour détecter les défauts et les contaminants, et pour mesurer la taille des particules. Les algorithmes d'analyse d'images ont été adaptés pour identifier les zones de contamination potentielle et pour mesurer avec précision les particules et les défauts. Le système comprend également un ensemble d'outils logiciels tels que les algorithmes d'alignement d'images, les algorithmes de vérification/rectification de masques et les algorithmes de détection de défauts à haute résolution. Tous ces outils peuvent être utilisés en combinaison pour l'analyse automatisée et la déclaration des résultats des inspections. Enfin, NANOMETRICS 9010 comprend également une interface graphique conviviale qui permet aux utilisateurs de visualiser, d'analyser et de stocker les résultats de l'inspection. L'interface utilisateur permet également aux utilisateurs de personnaliser les paramètres et les réglages de l'unité d'inspection, pour des opérations personnalisées. Dans l'ensemble, la machine d'inspection 9010 Masque et Wafer fournit une solution fiable, rapide, automatisée et personnalisée pour l'inspection masque et wafer. L'outil peut rapidement et précisément détecter et mesurer les défauts et les particules, et analyser les données qui en résultent pour un contrôle de qualité accru. L'interface conviviale, combinée aux outils automatisés, fait de l'actif un choix idéal pour les ingénieurs de process, les fabricants de masques et les fabs.