Occasion NANOMETRICS 9010 #9358223 à vendre en France

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ID: 9358223
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Thickness measurement systems, 12" No manual 2008 vintage.
NANOMETRICS 9010 masque and wafer inspection equipment est un système robuste de haute qualité conçu pour le contrôle des processus et la détection des défauts dans l'industrie des semi-conducteurs. Il utilise un ensemble spécifique de technologies intégrées et de caméras haute définition pour détecter les défauts sur les substrats, avec l'ajout d'optiques étendues pour plus de précision. L'unité dispose d'une optique avancée, qui fournit une image claire et cohérente dans toute la gamme d'inspection. Cela garantit une image claire et précise des pixels pour une grande variété de tailles et de types de substrat, y compris les plaquettes, les motifs, les puces, les paquets et les dispositifs de matrice. Il peut également manipuler des matériaux réfléchissants pour identifier des défauts et des matériaux résistifs pour la détection de particules. 9010 peut détecter des particules en suspension et non en suspension aussi petites que 10nm. L'unité dispose également de plusieurs outils d'analyse et de reconnaissance avancée des motifs. Les fonctions d'analyse multicouche et d'inspection par balayage permettent une détection rapide et précise des défauts. Il peut également détecter la texture et le profil de surface, ainsi que l'imprimabilité. En outre, il dispose d'une machine d'inspection à haute vitesse basée sur la vision, qui est capable d'une inspection entièrement automatisée des modèles ou des caractéristiques les plus complexes. De plus, l'outil comprend un outil de mesure multifonctions entièrement automatisé qui permet aux utilisateurs de mesurer rapidement les paramètres critiques du processus, tels que la largeur de la ligne, la largeur de la barrière, la hauteur de la solution et la surface. Cela permet un contrôle plus strict des processus et donne aux utilisateurs une plus grande confiance. NANOMETRICS 9010 comprend également la classification automatisée des défauts, le regroupement et la hiérarchisation. Il peut marquer les défauts selon les spécifications du parmètre et peut également alerter les utilisateurs de tout échec fragile potentiel. En outre, il a une caractéristique unique des catacombes de mesure, qui permet aux utilisateurs de mesurer de petites caractéristiques telles que des bosses et des vias. 9010 est un outil puissant et précis d'inspection des masques et des plaquettes qui offre une détection plus précise des défauts, une mesure multifonctions, une classification automatisée des défauts et un marquage automatisé. Ses optiques étendues, ses caméras HD et ses multiples outils d'analyse fournissent des résultats plus précis et plus rapides. Combinées, ces caractéristiques font de NANOMETRICS 9010 un excellent choix pour les applications de contrôle des processus et d'inspection des défauts.
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