Occasion NANOMETRICS Caliper Mosaic #9281789 à vendre en France

NANOMETRICS Caliper Mosaic est un équipement automatisé d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour fournir une analyse complète et précise de la taille des caractéristiques, des dimensions critiques, du profil, de la forme et de la qualité de surface sur une sous-structure jusqu'à 45 nm. Le système comprend des technologies de mesure de la résistance induite par faisceau optique (OBIR) et du courant induit par faisceau optique (OBIC) pour mesurer efficacement les dimensions critiques (CD) et la topographie des dispositifs de petites microstructures complexes. L'objectif principal de l'unité est de fournir des données rapides, précises et fiables sur les dispositifs semi-conducteurs afin d'améliorer le contrôle de la production et la réduction des coûts. Il est équipé d'une table tournante unique, qui englobe l'ensemble de la plaquette, qui permet la cartographie de la plaquette et l'analyse de la déformation. La machine fonctionne sur un scanner hautement automatisé avec un outil d'imagerie optique avancé qui saisit les données d'image en haute résolution sur le masque et la plaquette. Cela donne beaucoup de points de données à analyser dans un large éventail de conditions de lumière. La technologie OBIR permet des mesures sur damascène, métal, isolations et autres structures réfléchissantes, et la technologie OBIC est conçue pour détecter de petites géométries qui pourraient ne pas être détectables à l'aide de l'OBIR. Cette combinaison rend pratiquement impossible de manquer des défauts de microstructure. Caliper Mosaic dispose d'une interface utilisateur intuitive ainsi que de capacités logicielles avancées pour l'analyse des défauts et la communication des données. L'interface utilisateur permet aux opérateurs de configurer facilement une tâche directement à partir du journal des données, et de revoir et confirmer rapidement les résultats des mesures. Le logiciel offre la possibilité de mesurer à travers de grandes trames de mise en page sans l'exigence de mesurer point par point ou d'exporter des données à partir de logiciels de mesure. Le modèle utilise des optiques et des filtres personnalisés pour correspondre au matériau semi-conducteur sous-jacent, avec la capacité de travailler sur les structures asymétriques et les caractéristiques cachées. L'équipement peut également être utilisé pour effectuer plusieurs inspections simultanées, y compris des niveaux de routage de flanc, tranchée, NMOS, PMOS et DF. Sous l'interface utilisateur intuitive et les capacités logicielles avancées, le système NANOMETRICS Caliper Mosaic dispose d'un matériel puissant, y compris une unité d'imagerie optique avancée avec une gamme dynamique élevée et un champ de vision plus large, ainsi que d'une machine de mouillage, de lasers multiples et d'automatisation matérielle pour maximiser le débit et réduire l'effort manuel. Dans l'ensemble, l'outil Caliper Mosaic se distingue comme un outil fiable et complet d'inspection automatisée des masques et des plaquettes pour une analyse rapide et précise de la taille des caractéristiques, des dimensions critiques, du profil, de la forme et de la qualité de surface. Le modèle est adapté à la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs, permettant un contrôle efficace des procédés et une réduction des coûts.