Occasion NANOMETRICS Caliper Mosaic #9383063 à vendre en France
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ID: 9383063
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2011
Overlay control system, 12"
2011 vintage.
NANOMETRICS Caliper Mosaic est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes qui utilise le balayage laser en conjonction avec l'imagerie planaire pour obtenir des images à l'échelle nanométrique de structures structurées ou non dans des plaquettes, des masques et des matériaux connexes. Le système offre trois fonctions distinctes : la mesure optique, l'imagerie et la métrologie du masque. Grâce au balayage laser, Caliper Mosaic offre une précision de mesure maximale inférieure à 5nm en mode carte de plaquettes à une résolution de 7,5 microns (Nanomètre). L'unité fournit également l'analyse dynamique de films nappés avec des mesures de précision dans la gamme de plus ou moins 2 nanomètres. De plus, grâce à son logiciel automatisé d'ingénierie inverse, la machine est capable d'analyser les données de mesure et d'enregistrement de superposition recueillies sur les surfaces numérisées de façon optique et lithographique. Grâce à ses capacités d'imagerie, l'outil peut offrir une imagerie de résolution sous-micron des caractéristiques de wafer et de masque. Un objectif haute résolution de 5 mégapixels est utilisé pour acquérir des images dans la gamme de 15 microns. Les images acquises peuvent également être ajustées, mises à l'échelle, tournées et positionnées à volonté. En outre, l'actif offre un logiciel intégré de comparaison de motifs qui peut être utilisé pour faire correspondre des fonctionnalités et des éléments numérisés optiquement à une liste de modèles prédéterminés. NANOMETRICS Caliper Mosaic est également adapté pour une large gamme d'opérations de métrologie dans la fixation de masques, y compris l'alignement de la sonde, les mesures de décalage de recouvrement, le contrôle CD, l'analyse de recouvrement complexe et le placement des composants. Il utilise deux substrats NIST appariés pour identifier le décalage et l'erreur de recouvrement. Les données obtenues sont ensuite utilisées pour effectuer une analyse de distorsion pour le contrôle de superposition. En conclusion, Caliper Mosaic est un modèle très sophistiqué qui offre des capacités complètes d'inspection des masques et des plaquettes à l'échelle nanométrique. Il offre des capacités précises de métrologie de mesure optique, d'imagerie et de masquage qui permettent une compréhension approfondie de la structure et du modèle des matériaux utilisés pour créer des dispositifs microélectroniques. L'équipement est inestimable pour les applications industrielles qui nécessitent une précision de mesure étroite car il peut être utilisé pour secouer et inspecter avec précision les objets cibles avec une précision maximale.
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