Occasion NANOMETRICS CD-50-2 #9123936 à vendre en France

ID: 9123936
Style Vintage: 1999
CD control systems Measurement : (1) Nanometrics microscope with trinocular head Isolation stand Eyepieces: WHK 10X/20L Objectives: Ms plan 5X/0.13 Ms plan 20X/0.46 ULWD Ms plan 50X/0.55 X-Y-Z stage Computers (7) video camera Computer controlled scanning photometric microscope instrument Designed for measuring line widths Gaps and registration alignment Effective measuring range: 0.5 to 125.0 microns Stage X-Y movement: 4" x 4" Scan time of less than 5 secs Voltage: 115V Power: 50/60 Hz 1999 vintage.
NANOMETRICS CD-50-2 est un système haut de gamme d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour les fabricants de masques et de plaquettes. Il est conçu pour fournir aux fabricants de masques et de plaquettes un niveau de précision et de précision inégalé dans l'industrie. Avec son optique précise, son traitement d'image avancé et sa précision à l'échelle nanométrique, CD-50-2 est en mesure de fournir aux fabricants de masques et de plaquettes des niveaux de contrôle de qualité inégalés. NANOMETRICS CD-50-2 utilise un réseau de cinq modules laser qui émettent de la lumière de différentes longueurs d'onde. Ces lasers sont combinés avec un système optique unique qui est conçu pour détecter les défauts du masque et de la plaquette à l'échelle du nanomètre. CD-50-2 est capable de mesurer avec précision les défauts microscopiques, depuis les caractéristiques individuelles du masque et de la plaquette jusqu'aux atomes, et de voir les défauts sous-superficiels. NANOMETRICS CD-50-2 dispose également d'un puissant algorithme de traitement d'image qui lui permet de détecter même les défauts les plus difficiles à voir. Cet algorithme puissant permet de déterminer avec précision les emplacements et les grandeurs de tous les défauts, qu'ils soient dans le masque ou les matériaux de plaquette. En plus de sa capacité d'optique et de traitement d'image de haute précision, CD-50-2 dispose également d'une base de données complète de matériaux et spécifications de masque et de wafer. Cela permet à NANOMETRICS CD-50-2 de déterminer avec précision les caractéristiques de tout masque ou plaquette qu'il lui est demandé d'inspecter, et de générer des rapports détaillés sur les résultats. CD-50-2 est un puissant ajout au champ d'inspection du masque et de la plaquette. Ses capacités d'optique et de traitement d'image de haute précision lui permettent de détecter même les plus petits défauts, et sa base de données complète de matériaux de masque et de plaquettes lui permet de déterminer avec précision les caractéristiques et de produire des rapports détaillés sur les résultats. NANOMETRICS CD-50-2 est très rentable, et est un choix idéal pour le fabricant de masques et de plaquettes à la recherche de la plus haute qualité de produit.
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