Occasion NANOMETRICS M-215 #9226304 à vendre en France

NANOMETRICS M-215 est un équipement haut de gamme d'inspection de masques et de plaquettes conçu et fabriqué par NANOMETRICS Incorporated. Il offre une combinaison unique de capacités d'imagerie, de métrologie et de surveillance des processus pour les fabricants de masques semi-conducteurs et les fabricants de circuits intégrés (IC). M-215 système utilise la dernière technologie de microscope à force atomique portatif, capable de balayer les surfaces bidimensionnelles avec une résolution et une précision nanométriques. Il est conçu avec des capacités d'inspection spécifiques pour les masques, les plaquettes et les matériaux associés tels que les photorésistants, les polymères, les couches minces, les cadres en plomb et d'autres résidus de processus. NANOMETRICS M-215 intègre l'algorithme breveté de Nanometer « Planar Image Processing » (PIP), ce qui lui permet de mesurer avec précision les caractéristiques topographiques critiques des motifs et défauts placés. PIP permet également aux techniciens de visualiser l'image sous de multiples angles, ce qui leur permet de mieux isoler les régions problématiques. L'appareil est livré avec plusieurs commodités, telles qu'une interface graphique utilisateur intuitive (interface graphique). L'interface graphique offre la capacité d'effectuer diverses tâches sur un masque ou une plaquette donné, comme la reconnaissance de motifs, la reconnaissance de défauts, et le calibrage et la caractérisation précis. Ceci rend M-215 idéal pour l'inspection des défauts et l'optimisation des processus. En plus de PIP, NANOMETRICS M-215 dispose de capacités avancées de restauration d'images automatisées basées sur des algorithmes pour évaluer des matériaux avec des surfaces ou des tissus non uniformes. Il est également capable d'identifier les angles de flop et de mesurer avec précision les paramètres souhaités, tels que la largeur de ligne, le pas, le facteur de forme, les éléments de processus, la topologie et les défauts. En outre, la machine est équipée de capacités d'analyse spécifiques au processus, simulant diverses étapes du processus semi-conducteur pour vérifier sa compatibilité et optimiser ses performances. En bref, M-215 représente un outil sophistiqué pour tout fabricant ou chercheur impliqué dans l'inspection de haut niveau masque et wafer. Avec sa combinaison de fonctionnalités d'imagerie et de métrologie innovantes, d'algorithmes sophistiqués et de restauration automatisée fiable, l'outil offre une puissance et une précision supérieures en matière d'inspection et de caractérisation des matériaux.