Occasion NANOMETRICS M6100A #9243269 à vendre en France

NANOMETRICS M6100A Mask & Wafer Inspection Equipment est un outil d'inspection de précision polyvalent et puissant conçu pour répondre aux besoins toujours croissants de l'industrie de l'inspection des wafers et masques. M6100A système utilise une unité d'imagerie laser haute résolution pour l'inspection des motifs de plaquettes et de masques qui lui permet d'obtenir une résolution de niveau micron. La machine est capable de détecter de manière économique des défauts extrêmement faibles, tels que des fils cassés et des contacts manquants. L'outil NANOMETRICS M6100A offre une variété d'options et de fonctionnalités disponibles, y compris un zoom optique et des capacités graphiques améliorées. Cet atout est conçu pour répondre aux exigences d'une grande variété d'applications technologiques de masque et de plaquette, permettant à l'utilisateur d'obtenir rapidement et avec précision la plus haute qualité d'image possible. Le modèle est capable de fonctionner avec une variété de matériaux, y compris des couches transparentes et opaques, et supporte l'inspection directe et indirecte. Avec M6100A, deux caméras de 4 mégapixels sont montées derrière un grand cadre en acier inoxydable, léger et peu profilé, afin d'assurer un bon fonctionnement et une précision maximale de l'équipement. Un rétroéclairage LED améliore le contraste d'image pour plus de résultats et de fiabilité, tandis que l'objectif de zoom optique de longue durée permet des vues magnifiées de détails extrêmement petits. En plus de ces fonctionnalités, le système NANOMETRICS M6100A dispose d'une variété de capacités avancées hors ligne telles que l'inspection des défauts et la génération d'images tridimensionnelles (3D). Ceci permet de revoir les motifs de masques et de détecter rapidement et facilement les défauts. L'unité est également capable d'interpoler des données provenant de sources multiples, ce qui facilite l'identification et la localisation des défauts difficiles à voir. En outre, M6100A machine offre la détection automatisée des défauts en utilisant des algorithmes intelligents de reconnaissance de motifs, ainsi que la saisie manuelle des paramètres au besoin. La détection automatisée des défauts garantit des performances constantes en ce qui concerne la révision des modèles de masques, tandis que la saisie manuelle des paramètres permet aux utilisateurs de personnaliser les critères de recherche afin d'identifier des défauts plus subtils. Cet outil est également intégré à divers logiciels et systèmes CAO, permettant à l'utilisateur d'accéder directement aux données des fichiers sources, ce qui simplifie les processus d'inspection. NANOMETRICS M6100A Masque et Wafer Inspection Asset est un outil avancé d'inspection à haute résolution capable de détecter des défauts sur les masques et les wafers que d'autres systèmes d'inspection manqueraient. Il fournit à l'utilisateur un moyen rentable d'obtenir des résultats de haute qualité tout en fournissant une grande variété de fonctionnalités et de capacités, ce qui en fait le choix idéal pour l'inspection et la vérification des motifs de masque et de plaquettes.