Occasion NANOMETRICS Nano 215S #9226644 à vendre en France

NANOMETRICS Nano 215S est un masque haute performance et un équipement d'inspection de plaquettes qui utilise la technologie d'imagerie tridimensionnelle (3D). Il est conçu pour les procédés de production de dispositifs à semi-conducteur IC et dispose de caméras à échantillons multiples et d'une source lumineuse LED puissante qui permet une imagerie 3D haute vitesse précise du défaut et de la caractérisation. Nano 215S comprend également un système de vision externe haute vitesse capable de capturer et d'analyser de grandes tailles de défauts. Cette technique d'inspection des masques et plaquettes est très fiable et fournit une imagerie tridimensionnelle détaillée des défauts avec une résolution de 1 mètre. Cela permet des niveaux plus élevés de précision et de répétabilité lors de l'inspection des défauts de masque et de plaquette. Son logiciel intégré de validation et de pré-analyse des défauts améliore le temps d'analyse tandis que son interface utilisateur intuitive améliore le flux de travail. En plus de l'imagerie 3D de précision, NANOMETRICS Nano 215S dispose également d'un large champ de vision (FOV) qui permet une plus grande zone de couverture pour observer et détecter rapidement les défauts supérieurs à 1 millimètre. Nano 215S dispose également d'une unité de détection de longueur d'onde multiple qui augmente la vitesse d'échantillonnage et la précision. D'autres caractéristiques incluent une machine d'observation asynchrone qui permet de capturer plusieurs flux de données simultanément, ainsi qu'un outil d'autofocus qui fournit une focalisation adaptative sur différentes informations. NANOMETRICS Nano 215S offre à la fois wafer et masque CD-SEM performance. Il est capable de caractériser et de mesurer la taille de divers défauts sur différents matériaux. Il fournit l'analyse et la détection en temps réel de ces différents défauts, avec des stratégies optiques et de microscopie électronique à balayage (SEM) qui sont utilisés pour l'analyse à la volée. Nano 215S dispose d'outils automatisés de fonctionnement des plaquettes et de fonctions d'auto-échantillonnage qui permettent un échantillonnage et un traitement uniformes des plaquettes. L'actif est personnalisable pour correspondre aux applications spécifiques à son utilisation et peut être interfacé avec des machines tierces pour un flux de travail connecté. Son imagerie haute vitesse permet d'augmenter le débit pour une exécution plus rapide des tâches de balayage et d'analyse. NANOMETRICS Nano 215S est un modèle d'inspection de masque et de plaquettes rentable et performant qui permet une détection et une caractérisation plus rapides des défauts avec une plus grande précision. Ses puissantes capacités d'imagerie 3D combinées à une large caméra FOV et à des équipements de détection de plusieurs longueurs d'onde améliorent la précision et la répétabilité des analyses défectueuses afin que les utilisateurs puissent rapidement déterminer et réparer les problèmes avec précision et efficacité.