Occasion NANOMETRICS NANOLINE 50-2/50-2C #9101475 à vendre en France

NANOMETRICS Nanometrics 50-2 et 50-2C sont des systèmes d'inspection automatisés de masques et de plaquettes à haute performance. Ils sont conçus pour des plaquettes de 200mm avec une taille de réseau allant jusqu'à 2000 mm × 2000 mm. L'équipement peut inspecter la plaquette, avec une caméra CCD haute résolution, pour les défauts de motif, la contamination des particules et le matériau photorésist.. Le système est capable de produire des images complètes de puce en peu de temps. Les images sont créées par des objectifs parfocaux limités à la diffusion ou par un schéma de pas large propriétaire et sont fournies sur une caméra et une unité de projection laser de ligne à haute résolution, à couplage de charges grand format (CCD). La machine propose également un algorithme avancé de StereoDetection qui peut détecter de petits détails, des défauts agressifs et des défauts de portée dans les défis de métrologie les plus difficiles. Les Nérabilité Line 50-2 et 50-2C disposent d'un outil intégré de traitement d'image qui est capable d'extraire des détails de motifs fins de la plaquette, ainsi que de fournir des rapports automatisés de classification des défauts et de sortie. L'actif est capable de visualiser à la fois le proche infrarouge (NIR) et l'imagerie optique. En outre, il peut également être configuré avec une capacité 3D qui permet l'inspection de zones de faible topographie. La ligne Nérabilité 50-2/50-2C est conçue pour offrir une répétabilité élevée et une précision à long terme. Il utilise un modèle de repositionnement rapide avec un accéléromètre incrémental et un équipement d'équilibrage dynamique pour assurer un alignement précis de l'image dans le temps. La machine peut fonctionner avec des axes indépendants de trois rouleaux, balayant jusqu'à 2000 mm × 2000 mm/sec. Les composants du système sont construits en matériaux rigides, non flexibles et facilement entretenables pour garantir des images et des performances de la plus haute qualité. L'unité est également calibrée par un algorithme propriétaire NANOMETRICS qui est capable de compenser les variations du capteur de caméra, de la lentille et de l'éclairage. La machine est contrôlée par une interface utilisateur graphique (interface graphique) puissante et facile à utiliser. L'interface graphique est entièrement personnalisable et dispose de fonctionnalités telles que l'automatisation avancée des outils et les capacités de rapport. Il est également compatible avec les logiciels EDA ou CAO les plus couramment utilisés, ce qui facilite l'intégration dans le flux de processus. NANOMETRICS Nanometrics 50-2 et 50-2C sont conçus pour garantir des résultats de la plus haute qualité pour les applications de métrologie. Les images haute résolution, la détection précise des défauts et les performances répétables en font le choix idéal pour des applications telles que la détection des défauts de semi-conducteur, la lithographie optique et l'inspection des panneaux photovoltaïques. Les fonctionnalités avancées et l'interface graphique intuitive de l'outil les rendent parfaites pour les environnements de production et de recherche à haut volume.