Occasion NANOMETRICS NANOLINE 50-2 #9193170 à vendre en France

NANOMETRICS NANOLINE 50-2 est un équipement automatisé, rapide, Masque et Wafer Inspection conçu pour détecter et analyser une grande variété de défauts critiques avec une très grande précision. Le système utilise un étage porteur de plaquettes équipé d'un entraínement direct et de codeurs linéaires sans contact haute résolution pour un déplacement et un alignement ultra précis de la plaquette à l'intérieur de l'étage. La précision de l'étage est encore améliorée avec un étage thêta motorisé pour un positionnement précis de la plaquette. De plus, un objectif à ouverture numérique variable permet à l'unité de fournir une imagerie haute résolution pour les petits motifs de pas. La machine est capable d'effectuer une inspection complète sur le terrain de chaque quadrant de la plaquette ainsi qu'un étalonnage automatique à l'aide de lames ou de cales d'étalonnage standard. En plus de l'étalonnage, NANOLINE 50-2 fournit des caractéristiques complètes de mesure et d'alignement pour assurer des mesures précises. Pour l'analyse et la caractérisation des défauts, l'outil est livré avec un logiciel avancé d'éditeur de méthodes qui prend en charge de nombreux types de techniques d'analyse d'images telles que le champ lumineux, le champ sombre, l'imagerie de phase, APS, CWF, et Coloumns. Pour la détection des défauts, des mesures de seuil et de pixel sont fournies, et l'actif a des capacités d'appariement de motifs de ligne étant donné que les motifs sont stockés dans une base de données. De plus, un instrument basé sur l'histogramme multi-régions est inclus qui peut détecter les écarts de patrons qui sont inférieurs à la résolution du microscope. Pour soutenir une inspection plus poussée des défauts, le modèle dispose d'un équipement d'éclairage LED embarqué qui peut fournir des niveaux d'éclairage variables, permettant aux utilisateurs d'obtenir un contraste plus élevé. Un large éventail de types de défauts tels que les défauts d'impression, les défauts de gravure et les défauts de particules peuvent être détectés. Le système est également livré avec un PC haute performance embarqué et un grand écran tactile de 21 "pour faciliter le fonctionnement de l'interface. En outre, le PC fournit une connectivité réseau à des bases de données et dispositifs externes, fournissant une analyse de données sophistiquée et le contrôle du flux de travail. En résumé, NANOMETRICS NANOLINE 50-2 Mask & Wafer Inspection Unit est une machine automatisée et haute performance conçue pour fournir une détection et une analyse fiables d'un large éventail de défauts sur les plaquettes. L'outil est très précis et offre une variété de caractéristiques pour l'étalonnage, la détection des défauts et la caractérisation. L'écran tactile intégré PC et grand écran tactile le rend idéal pour un fonctionnement facile de l'utilisateur, et l'éclairage LED guidé et les objectifs inclinables permettent une analyse détaillée des défauts à l'aide d'une variété de techniques d'imagerie.