Occasion NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV #9105590 à vendre en France

NANOMETRICS Le Nanometrics Nanometrics Spec 210 XP/UV est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes qui combine l'alignement automatique avec l'imagerie haute résolution et un logiciel convivial qui le rend rapide et facile à utiliser. Le système a été conçu pour une utilisation dans une variété d'applications d'inspection de plaquettes et de masques, offrant d'excellentes performances optiques et une flexibilité pour un large éventail d'exigences d'analyse. L'unité dispose d'un microscope optique de grande résolution pour l'inspection des plaquettes, des masques et des puces. Le microscope a un FOV de 75 mm et un grossissement réglable jusqu'à 200x. L'optique est conçue pour fournir une excellente clarté d'image avec de faibles aberrations, ce qui améliore la précision de mesure. Le microscope dispose également d'un capteur d'imagerie CMOS de 5 mégapixels avec une plage dynamique de 14 bits et une excellente sensibilité aux couleurs. NANOMETRICS Le Nanometrics Nanometrics 210 XP/UV offre également une machine avancée de balayage d'étages pour l'imagerie la plus rapide et la plus précise. L'outil dispose d'un outil de balayage à grande vitesse avec un indexeur, conçu pour un mouvement précis et simultané sur les trois axes (X, Y et Z). Le moteur d'indexation est conçu pour un mouvement rapide avec un minimum de vibrations : il peut se déplacer jusqu'à 40 mm en aussi peu que 40 ms, fournissant une vitesse de balayage de plus de 200mm/s. Le Nérabilité Spec 210 XP/UV comprend également un modèle d'alignement automatique pour s'assurer que la plaquette ou le masque est bien positionné et aligné sur le motif correspondant sur le moniteur. Cela garantit des performances cohérentes, même en prenant plusieurs images à différents angles et endroits. L'équipement dispose également d'une capacité d'enregistrement des données, permettant à l'utilisateur de stocker des images et des mesures détaillées à leur ordinateur pour une analyse et un compte rendu plus poussés. Pour permettre à l'utilisateur de mesurer rapidement et précisément les motifs de conception sur une plaquette ou un masque, le système comprend une unité intégrée de mesure de proximité optique (OPM) pour l'analyse de précision. La machine OPM peut mesurer jusqu'à 100 caractéristiques avec un positionnement précis et la détermination de la taille. L'outil OPM comprend également un algorithme avancé de reconnaissance de motifs pour une performance optimale. Enfin, l'interface logicielle conviviale permet de contrôler facilement l'actif et d'effectuer des opérations complexes. Le logiciel comprend un ensemble complet de paramètres et d'options pour personnaliser l'analyse, permettant à l'utilisateur de mesurer rapidement et avec précision les modèles de conception, les défauts, et plus encore. Dans l'ensemble, NANOMETRICS Nfor Spec 210 XP/UV est un modèle avancé d'inspection des masques et des plaquettes. Avec son imagerie haute résolution, son étage de balayage rapide et son enregistrement précis des données, l'équipement offre d'excellentes performances et flexibilité pour diverses applications d'inspection des plaquettes et des masques.