Occasion NANOMETRICS NanoSpec 210 #9057991 à vendre en France
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ID: 9057991
Taille de la plaquette: 6"
Film measurement system, 6"
Dual stage
Range of Thicknesses: 100 to 500,000 angstroms
Reflectance Mode
Thick Films, Reproducibility: 5A ± 5% depending upon the film type
Typical Measurement Time: 2.5 seconds
Olympus M10x and M40x objective
Spot Size:
50 um with 5x objective
25 um with 10x objective
6.5 um with 40x objective
Film Types:
Oxide on Silicon
Nitride on Silicon
Negative Resist on Silicon
Polysilicon on Oxide
Negative Resist on Oxide
Nitride on Oxide
Polyimide on Silicon
Positive Resist on Silicon
Positive Resist on Oxide
Options available: Olympus M5X and M100X.
Le NANOMETRICS Nondies Spec 210 est un équipement d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour inspecter les caractéristiques nominales et non nominales avec une grande précision et une grande vitesse. Le système entièrement automatisé permet de mesurer de petites caractéristiques et défauts jusqu'à 1 µm sur des plaquettes de 200 mm. L'unité contient des composants tels qu'une machine d'imagerie haute résolution avec optique infrarouge, un profilomètre optique et un robot wafer. L'outil d'imagerie utilise un large champ de vision pour la première inspection de passage et un champ de vision étroit pour l'inspection à haute résolution. Le profilomètre optique est utilisé pour le profilage de surface tridimensionnel, tandis que le robot de plaquette est utilisé pour manipuler les plaquettes et les positionner correctement sur l'actif pour inspection. NANOMETRICS NANO SPEC 210 dispose également d'une unité de traitement de données avancée qui lui permet d'identifier et de classer rapidement les caractéristiques, les défauts et les structures non nominales. Le modèle fournit un rapport et une image détaillés de chaque zone inspectée, qui peuvent être utilisés pour une caractérisation et une vérification plus approfondies. L'équipement dispose également de divers outils logiciels tels qu'un paquet d'analyse de données mesurées (MDAP) et un paquet de révision de masque de défaut virtuel (VDMR). Le MDAP aide à identifier et classer rapidement les défauts complexes, tandis que le VDMR fournit un aperçu complet des résultats de l'inspection pour d'autres diagnostics ou la classification des défauts. NanoSpec 210 est aussi convenable pour inspecter la puce de la chiquenaude, les systèmes micro-électromécaniques (MEMS) et les images de CMOS avec la haute exactitude. C'est une solution d'inspection fiable et rentable pour une variété de procédés semi-conducteurs. L'ensemble du système est logé dans une seule armoire, ce qui le rend facile à installer et à utiliser. La configuration standard polyvalente permet d'effectuer un large éventail de tâches d'inspection sans aucune modification matérielle. En résumé, NANO SPEC 210 est un masque sophistiqué et une unité d'inspection de plaquettes. Il est rapide, fiable et économique, ce qui le rend adapté à une large gamme d'applications de semi-conducteurs. Il combine une machine d'imagerie haute résolution, un profilomètre optique et un robot wafer avec un logiciel spécialisé pour inspecter et classer les caractéristiques nominales et non nominales.
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