Occasion NANOMETRICS NanoSpec 210 #9256979 à vendre en France

NANOMETRICS Nérabilité Spec 210 est un puissant équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour aider les professionnels de la conception de semi-conducteurs et de la lithographie à atteindre le plus haut niveau de précision et de fiabilité pour leurs applications les plus exigeantes. Le système combine un large éventail de capacités d'inspection, telles que le profilage de faisceau avancé, la microscopie confocale et la métrologie de superposition, avec un niveau d'automatisation de pointe de l'industrie pour fournir l'imagerie la plus performante pour les appareils avancés d'aujourd'hui. Au cœur, NANOMETRICS NANO SPEC 210 est alimenté par un étage 5 axes à haute résolution, contrôlable avec précision sur toute sa surface de travail. Cette étape permet de supporter des plaquettes jusqu'à 300mm et d'atteindre des vitesses X-Y allant jusqu'à 0,45 millimètre par seconde. La machine utilise également un moteur d'imagerie avancé, qui combine un capteur d'image CMOS 1664 x 1044 en silicium avec une optique de réduction 10x pour fournir une imagerie rapide et haute résolution. Les capacités de profilage du faisceau de l'outil sont inégalées, avec un large éventail d'outils pour mesurer et caractériser l'angle d'incidence et la propagation de la lumière. Par exemple, l'actif comporte une fonction d'iris variable qui permet aux utilisateurs d'ajuster la taille du faisceau pour une plus grande précision lors du balayage, et une fonction d'éclairage polarisé qui peut réduire le contraste et le bruit. Le Nfor Spec 210 dispose également de capacités de métrologie de superposition de pointe, permettant aux utilisateurs de mesurer les erreurs d'alignement et de superposition associées aux fonctions lithographiques avancées. Avec une plage de mesure allant jusqu'à 15 microns et un algorithme de reconnaissance des fonctionnalités permettant d'identifier automatiquement les décalages et les erreurs, ce modèle fait de l'alignement et de la métrologie de superposition une brise. Enfin, l'équipement d'inspection offre également une microscopie confocale à haute résolution, permettant des mesures de taille, de nature et de forme bien au-delà de la résolution de la microscopie traditionnelle. Cette technique d'imagerie très précise permet de mesurer avec précision les structures et les caractéristiques des sous-microns, ce qui permet aux utilisateurs de détecter les écarts les plus faibles. Au total, NANO SPEC 210 est un puissant système d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour répondre aux exigences des applications semi-conductrices les plus exigeantes. Avec ses capacités d'imagerie et de mesure robustes, cette unité est parfaitement adaptée pour offrir le plus haut niveau de précision et de fiabilité.