Occasion NANOMETRICS NanoSpec 3000 #9187358 à vendre en France

ID: 9187358
Taille de la plaquette: 3"-6"
Style Vintage: 2006
Film thickness measurement system, 3"-6" With IRVINE Ultrastation 3.B autoloader Solid stage linear diode array detector (15) Standard film types Measurement time: 0.25 s to 4 s per site Data management: Statistical data analysis Data export (ASCII) Hardware configuration: Optics: 10x Spot size: 25 μm Computer: 333 MHz PC With 3.2 G hard dive, 64 RAM Performance: Film: (3) Layers Film thickness range: 250 A to 35 µm Wavelength range: 480-800 nm Reproducibility: <2 A Electrical power: 117±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A 230 V, 50/60 Hz, 2.5 A 2006 vintage.
NANOMETRICS Nérabilité Spec 3000 est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes conçu pour répondre aux exigences les plus exigeantes de l'industrie. Il dispose d'un système d'imagerie numérique haute vitesse et haute résolution et d'une suite d'outils avancée et exclusive qui est adaptée à l'inspection des masques et plaquettes avec une grande précision et répétabilité. Les composants optiques et mécaniques avancés de l'unité permettent de répondre à un large éventail de besoins critiques en imagerie. Il dispose d'objectifs optiques de type diagonale avec des capacités de zoom variables et un miroir d'imagerie penta-prisme très réfléchissant, assurant une vitesse de capture d'image optimale et la répétabilité. NanoSpec 3000 emploie aussi une machine d'autofoyer de laser de XY-couteau motorisée numérique, qui est conçue pour fournir un foyer ferme, dynamique sur toutes les régions de la gaufrette ou du masque. NANOMETRICS Nérabilité Spec 3000 comprend également une gamme de fonctionnalités qui étendent l'utilité de l'outil, comme l'outil d'analyse de masque. Ceci est conçu pour comparer avec précision les masques à la conception originale pendant le processus de fabrication des plaquettes. Il effectue l'extraction rapide et précise des paramètres de masque, en utilisant des algorithmes avancés pour corriger les distorsions optiques et géométriques. L'actif fournit également un algorithme de correction de distorsion géométrique optionnel, permettant aux utilisateurs de rendre compte des aberrations introduites lors de la fabrication de photomasques. Ceci est réalisé à l'aide d'un tableau propriétaire de paramètres, garantissant que les images restent parfaitement alignées avec le design original. De plus, Nérabilité Spec 3000 offre une gamme d'options d'acquisition de données, y compris le modèle d'imagerie numérique NanometerMD. Cet équipement combine un système d'acquisition d'images haute résolution et haute vitesse avec une suite d'outils avancés d'analyse de données et de traitement d'images. Il est conçu pour permettre aux utilisateurs d'examiner, de comparer et d'analyser rapidement et facilement les données générées par NANOMETRICS Nérabilité Spec 3000. NanoSpec 3000 fournit aussi un large éventail d'accessoires optionnels, tels qu'une unité de manipulation de gaufrette automatisée, une machine d'identification robustwafer et un outil de visualisation puissant. Toutes ces caractéristiques font de NANOMETRICS Nérabilité Spec 3000 un choix idéal pour les besoins exigeants de l'industrie des semi-conducteurs en matière d'inspection des masques et plaquettes.
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