Occasion NANOMETRICS NanoSpec 4000 #6696 à vendre en France

ID: 6696
System Head assy: Photomultiplier tube Wavelength gears Voltage regulator PCB Realign head optics Computer assy: CS-9 Main power supply RAM/ROM PCB R&R all PCB's PC computer: NANO 4000 Microscope assy: R&R microscope stand and stage assy with focusblock Stage addy with 6" capability Microscope lamp Optics 5x, 10x, and 50x (15x for UV) Color monitor with keyboard Optional: 8" wafer capability Photomultiplier tube Standard film type measured: / Typical range: / Typical repeatability: Single layer films visible UV: / 500-50.000A, 25-500* / 2A Triple layer films consult factory: / - / - Single layer thick films visible: / 4 - 75 micron* / 1% Double layer thick films consult factory: / - / - Reflectance visible UV: / 400-850 run, 200>400nm / 0.4%, 0.2% Oxide on poty UV: / 150-10.000A / 2A Oxide on metal visible UV: / 3,000-20,000*, 500-5,000A / 3A, 3A Double layer films visible: Top layer / 100-30.000A / 2A Bottom layer / 100-10.000X / 8A.
NANOMETRICS Nérabilité Spec 4000 est un puissant équipement d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour fournir une couverture complète de votre processus de production de semi-conducteurs. Utilisant une technologie d'imagerie optique avancée, cette plate-forme offre une précision et une répétabilité nanométriques, permettant l'inspection des plaquettes et des masques avec une précision et une vitesse inégalées. Le système est capable d'inspecter des dispositifs de taille allant de 2 microns à 2 millimètres et peut être programmé pour détecter et mesurer des caractéristiques ayant des dimensions inférieures à 10 nm. Au cœur, Nérabilité Spec 4000 est équipé d'un sous-système automatisé d'inspection de masque et de plaquettes qui inspecte la disposition d'une couche individuelle à l'aide d'un algorithme de reconnaissance de motifs pour comparer la couche désirée à la couche réelle. L'unité est capable de détecter les plus petites tailles de fonctionnalités avec un niveau extraordinaire de précision et de répétabilité, et ses optiques automatisées permettent un traitement d'image rapide et de haute précision afin d'évaluer sélectivement seulement les régions souhaitées du motif. NANOMETRICS Nérabilité Spec 4000 fournit également des capacités de mesure avancées, avec la plate-forme capable de capturer, stocker, analyser et interpréter plusieurs paramètres de topographie de surface. En utilisant la précision nanométrique, la machine est capable de produire des mesures de surface très précises, des valeurs min/max, et des possibilités de rugosité de surface. Cet avantage s'étend à la fois aux mesures verticales et horizontales et peut aider les fabricants à mesurer et diagnostiquer avec précision les problèmes qui se posent dans leurs conceptions de plaquettes ou de masques. Les capacités avancées de correction d'image et d'analyse d'image permettent un alignement précis du masque et de la plaquette, tandis que la véritable brillance de couleur garantit que les images sorties ont des couleurs vives et précises. Des capacités intégrées de saisie de données, de programmation de tests matériels/logiciels et d'étalonnage sont disponibles, ainsi qu'une gamme d'outils d'analyse et d'examen professionnels. NanoSpec 4000 est conçu pour rencontrer le contrôle de qualité et les besoins d'inspection de haute précision d'aujourd'hui l'environnement industriel. Sa combinaison inégalée de précision et de répétabilité, combinée à des capacités d'imagerie et de mesure avancées, fournit l'assurance nécessaire pour s'assurer que votre production de semi-conducteurs fonctionne à un rendement maximal.
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