Occasion NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9105595 à vendre en France

NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 est un masque haute performance et un équipement d'inspection des plaquettes. Il est conçu pour une utilisation dans un environnement de production ou de laboratoire, avec un design flexible avec des capacités de masque automatisé et d'inspection de film. Le système utilise une technologie de pointe, notamment une caméra CCD haute résolution, une optique de diffraction laser et une étape d'inspection automatisée. La caméra offre une vue claire et lumineuse de la zone d'inspection, permettant aux opérateurs d'analyser rapidement et avec précision les échantillons. L'optique de diffraction laser assure des mesures précises, même au niveau du nanomètre. De plus, l'étape d'inspection automatisée permet aux opérateurs d'inspecter rapidement les masques et les films afin d'assurer la précision de l'alignement et le contrôle de la qualité. Les outils logiciels avancés pour la gestion et l'analyse des données sont également disponibles sur Nérabilité Spec 6100. Son progiciel prend en charge une gamme de types de données, comme l'entrée binaire pour la conception assistée par ordinateur (CAO), et les fichiers de dessin personnalisés pour CAO, ainsi que l'importation et l'exportation de données. Le logiciel prend également en charge le traitement par lots, permettant aux utilisateurs de traiter rapidement et facilement plusieurs masques et films. NANOMETRICS NTHAT 6100 comprend un ensemble intégré d'outils matériels et logiciels, et est conçu pour fonctionner de manière entièrement automatisée. Il utilise une gamme d'algorithmes logiciels pour automatiser les tâches d'inspection des masques et des plaquettes. Les outils logiciels avancés de l'unité permettent une interface utilisateur intuitive qui simplifie le fonctionnement, permettant aux utilisateurs de traiter rapidement et facilement les masques et les plaquettes. La machine offre également des capacités intégrées de gestion de plaquettes et d'analyse de données qui permettent des débits plus élevés. La solution idéale pour les fabricants de semi-conducteurs, les ingénieurs de procédés de lithographie et les laboratoires de recherche et développement est la Nfor Spec 6100. L'outil fournit des données précises, fiables et reproductibles, permettant un suivi et un contrôle précis de la fabrication. Il peut également être utilisé pour identifier rapidement les problèmes liés à l'alignement du masque, à la distorsion du motif et à d'autres défauts. En outre, la flexibilité et l'efficacité de l'actif lui permettent d'être adapté à un large éventail d'applications et de tailles d'échantillons.