Occasion NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9355328 à vendre en France
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ID: 9355328
Taille de la plaquette: 3"-8"
Film thickness measurement systems, 3"-8"
Films: Up to 3-layers
Wavelength range: 400 to 800 nm
Film thickness range:
Visible: 250Å to 20 μm
UV and visible: 40Å to 20 μm (Dependent on film type)
Reproducibility: < 1Å UV / 2Å (Visible)
Measurement time: 0.5-3 Sec/site
Data management: 2D and 3D Mapping / Diameter scan
Communication type: SECS II
Data export: ASCII
Optics: 4x, 10x, 15x (UV), 40x
Spot sizes: 50 / 20 / 18 (UV) / 5.5 μm
PC System with high capacity drives
LCD Screen
Tabletop components:
Optics stand
Monitor and keyboard
Mouse
Trackball and joystick
Control electronics (WxDxH):
14" x 24" x 28"
35.56 x 60.96 x 71.12 cm
Power supply: 117 ±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A.
NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 est un masque de pointe et un équipement d'inspection des plaquettes qui aide les fabricants de semi-conducteurs à assurer le plus haut niveau de qualité de production. Le système intègre une diode laser de grande puissance (100 watts), une grande caméra de champ de vision, et une suite d'algorithmes avancés d'optique et de traitement d'image. Il permet d'inspecter de façon automatisée des défauts aussi petits que 3,5nm sur les surfaces des masques et des plaquettes et permet de détecter rapidement les points chauds lithographiques, les particules, les rayures et autres défauts critiques. NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 utilise une diode laser de 100 watts pour projeter la lumière dans un grand champ de vision rectangulaire qui est balayé à travers la surface du substrat. L'optique de l'unité est conçue pour minimiser la distorsion et la diffusion de la lumière, ce qui lui permet de détecter les défauts de sous-longueur d'onde et les caractéristiques de surface avec une grande fidélité. Les images résultantes sont analysées en temps réel par des algorithmes de segmentation d'images, permettant d'identifier et de repérer les défauts pour une inspection plus poussée. NanoSpec 6100 utilise deux modes reflétants avancés pour fournir la flexibilité maximum et la robustesse. En mode imagerie RVB, la machine utilise un capteur couleur haute résolution pour détecter les défauts dans les substrats de masque et de plaquette. En revanche, en mode d'imagerie mono-onde, une seule longueur d'onde laser est utilisée pour effectuer des détections à seuil de particules, de rayures, de fosses et d'autres défauts. Le NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 offre également un haut degré d'automatisation et de flexibilité. Un grand écran tactile permet aux opérateurs de démarrer et d'arrêter facilement les inspections, de modifier les paramètres et d'analyser les résultats. De plus, la capacité de balayage à grande vitesse de l'outil et la reconnaissance automatisée des défauts offrent un débit et des performances inégalés. Dans l'ensemble, Nérabilité Spec 6100 est un superbe masque et un outil d'inspection de plaquettes qui fournit des performances de pointe de l'industrie. Avec une imagerie haute résolution et des algorithmes automatisés puissants, le modèle est capable de détecter rapidement et de façon fiable les défauts lithographiques et les caractéristiques critiques de la surface. C'est un outil puissant pour atteindre les plus hauts niveaux de qualité et de rendement de production dans la fabrication moderne de semi-conducteurs.
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