Occasion NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9372486 à vendre en France

L « équipement NANOMETRICS NhouseSpec 6100 Masque et Wafer Inspection est un outil d'imagerie haute performance et de métrologie optique développé par NANOMETRICS pour l » évaluation de haute précision, haute résolution et de niveau de numérisation des fonctionnalités avancées des appareils. Le système profite de la dernière technologie de microscope optique, d'imagerie numérique, de logiciels de mesure et de contrôle informatique, et est conçu pour acquérir, traiter, analyser et rapporter rapidement des informations complètes sur les structures de masque et de plaquettes des dispositifs semi-conducteurs les plus complexes. Le Nérabilité Spec 6100 est spécialement conçu pour la mesure précise des motifs optiques à l'échelle nanométrique, tels que ceux requis pour les écrans plats à haute luminosité (FDD). Cette unité utilise une machine exclusive, digital spot autofocus qui effectue des piqûres de focalisation rapides et défocalisantes avec des résultats de mesure en temps réel et de haute précision. Les outils de déclaration NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 comprennent un logiciel puissant qui combine les données de plusieurs couches en un seul rapport. Cela comprend l'imagerie à haute résolution, l'imagerie par modèle couche par couche, la capacité d'alignement fin et une vaste gamme de mesures. En outre, l'outil offre une grande variété de fonctionnalités personnalisées pour valider les mesures, y compris la capacité d'évaluer l'impact des erreurs d'alignement des masques multicouches et de concevoir des plans d'optimisation des processus. NanoSpec 6100 est aussi capable du fait de refléter en temps réel et de l'inspection par ses capacités de perte de réflexion et de multiréflexion avancées. Ceux-ci permettent à l'actif de fournir rapidement un large éventail de résultats avec moins de mesures. De plus, pour garantir la plus grande précision des mesures, le modèle est équipé de capteurs d'inclinaison et de niveau à haute sensibilité afin de réduire les erreurs de répétabilité. NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 comprend une architecture logicielle très flexible, qui est conçue pour interagir avec une variété d'instruments externes. Cela inclut, sans s'y limiter, les applications de diffraction des rayons X, de microscopie à force atomique, d'interféromètre et de microscopie électronique à balayage. De plus, une série complète d'outils d'analyse, tels que la conception d'expériences, et le montage de courbes multidimensionnelles sont inclus dans l'équipement. Grâce à son interface utilisateur intuitive, à ses fonctions avancées de balayage et de métrologie, et à sa capacité à produire des résultats très précis et fiables, le système de masque et d'inspection Wafer 6100 est une solution idéale pour mesurer et analyser rapidement et avec précision les modèles d'appareils avancés.