Occasion NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9408485 à vendre en France
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ID: 9408485
Film thickness measurement system
Table top film analysis system
Mapping system
Non-contact spectroscopic reflectometry
Site measurement: 10µm
Resolution: 1µm coupled to a robust autofocus system
Wafer substrates range: 75mm - 300mm
Photomasks: 5-9 inches²
Film thickness range: 200Å - 30µm
Visible light source: 400 - 800 nm
Halogen lamp
Operating system: Windows 98.
NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 est un équipement spécialement conçu pour l'inspection des masques et des plaquettes, doté d'une technologie d'imagerie, de balayage et de mesure de pointe. Le système est capable d'analyser les masques et les plaquettes avec une résolution allant jusqu'à 8k et permet de mesurer les données avec une précision de répétition inférieure à 10nm. NanoSpec 6100 a été conçu à l'inspection de masques à grande échelle et de gaufrettes, tant dans les stades de production que de pré-production, dans une variété d'industries en incluant du semi-conducteur, un photomasque, une planche télégraphiante imprimée et un emballage électronique. L'unité est équipée d'un étage motorisé pour le balayage automatisé des échantillons ; un réglage motorisé de la hauteur sur deux axes pour une mesure rapide et efficace des échantillons ; et un algorithme breveté pour la correction intelligente de l'aberration. Ces caractéristiques le rendent capable de détecter des défauts aussi petits que 1.0uM sur une grande surface, fournissant une détection fiable avec moins de variabilité. Il peut inspecter des masques jusqu'à 575 x 489mm de taille et des plaquettes jusqu'à 4 "ou 200mm de diamètre. En termes de sortie de données, la machine peut fournir des images de contraste élevé et la carte des défauts générés avec l'amélioration du faux contraste, l'amélioration du contraste foncé et l'amélioration du contraste de couleur. En ce qui concerne ses capacités d'imagerie, NANOMETRICS Nand Spec 6100 utilise un outil Raman confocal (RCM), une méthode d'imagerie avancée qui utilise des mécanismes de contraste biologique pour générer des sectionnements optiques sans ablation physique. L'atout RCM offre un large éventail de capacités de résolution et peut représenter des structures de surface complexes que d'autres techniques d'imagerie ne peuvent pas réaliser. Le modèle offre en outre une analyse de défectivité entièrement automatisée sur place afin de fournir des données complètes pour l'analyse des défauts. Cela signifie que le rapport automatisé généré par l'équipement contient des informations détaillées sur la structure du matériau, les caractéristiques des défauts et la cause potentielle des défauts. Enfin, Nérabilité Spec 6100 offre une fonctionnalité spéciale qui permet à un utilisateur d'établir des paramètres d'inspection en fonction des défauts de surface à inspecter. Cela permet une plus grande flexibilité dans l'inspection d'une large gamme de surfaces. Dans l'ensemble, NANOMETRICS Nérabilité Spec 6100 est un système d'inspection de masque et de plaquettes très avancé qui combine des technologies d'imagerie et de balayage de pointe et offre une analyse de défectivité automatisée pour fournir des résultats complets. L'unité est capable d'analyse et de mesure détaillées de matériaux complexes, ce qui en fait un excellent choix pour l'inspection de masques et de plaquettes de haute qualité.
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